二手 MOT μGALV #293807037 待售
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單擊可縮放
ID: 293807037
優質的: 2023
Plating system
HMI
Filtering : 1 μm 10" Catridge
N2 Purge
Monitor, 17"
PLC Control
Valve: PP / EPDM Sealing
Template tank
Temperature: ±0.5 K
Heater: (2) Sensors
Circuit pump:
Capacity: 20 l/min
Power supply: 230 VAC
pH Control:
Accuracy: ±0.2 pH
Range: 2-12 pH
Rectifier:
Pulse reverse rectifier
Output: 0-20 ADC
Resolution: 1 mA
Output voltage: 0-10 V
Ripple: <1%
Minimum pulse time: 0.1 msec
Spray guns:
Material: PTFE
DI-Water Spray gun
N2 Spray gun
Wafer holder:
Material: PEEK
Edge exclusion: 3 mm
Chuck, 2"-6"
2023 vintage.
MOT μ GALV是一種尖端晶圓測試和計量設備,旨在滿足半導體制造和研究實驗室的苛刻要求。這個先進的系統結合了精確測試、測量和分析能力,以確保用於生產集成電路和其他電子器件的晶片的質量和可靠性。μ GALV單元的核心是其高精度的電磁測量技術,它在表征半導體晶片的電性能方面提供了無與倫比的精度和靈敏度。利用霍爾效應原理,該機能夠以卓越的精度和速度測量載波濃度、移動性、電阻率和霍爾系數等關鍵參數。MOT μ GALV工具的關鍵特性之一是模塊化設計,它允許靈活的配置和可擴展性,以適應不同應用和行業的特定需求。該資產可以配備一系列測量探針、傳感器和附件,以適應各種晶圓尺寸、類型和材料。此外,該模型還提供了一個集成的軟件平臺,使用戶能夠輕松控制和自定義測量例程、分析數據和生成詳細報告。除了其Galvanomagnetic測量能力外,μ GALV設備還提供了一系列其他計量技術來提供半導體晶片的綜合表征。這些包括光學檢查、表面輪廓測量、電氣測試和缺陷分析,允許用戶獲得晶圓性質和質量的完整畫面。MOT μ GALV系統配備了先進的自動化功能,以簡化測試和測量過程,提高吞吐量,減少人為錯誤。該單元可與機器人處理系統、晶圓映射工具和自動化數據分析軟件集成,創建從晶圓加載到最終檢查的無縫高效工作流程。此外,μ GALV機器的設計註重可靠性、耐用性和用戶友好的操作。該工具具有堅固的結構、高質量的組件以及先進的校準和校準功能,可確保隨著時間的推移獲得準確一致的結果。此外,該資產還配備了直觀的用戶界面、交互式教程和全面的技術支持,可幫助用戶加快速度並最大限度地提高模型的功能。最後,MOT μ GALV設備以其先進的電磁測量技術、全面的表征能力、自動化特性和用戶友好的設計,為晶圓測試和計量設定了新的標準。無論是用於半導體制造、研發還是質量控制應用,μ GALV系統都提供無與倫比的性能、靈活性和可靠性,以滿足半導體行業的苛刻要求。
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