二手 RUDOLPH MetaPulse 300 Cu #9124175 待售
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單擊可縮放
ID: 9124175
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Thin film measurement system, 12"
Ultrathin at 45 nm technology node to thick opaque films
Picosecond laser sonar (PULSE tm) technology
Product measurement are enabled with small spot size & non-contact
Non-destructive measurement method
RMS roughness
Material density
Adhesion
Material phase and interlayer reactions
Low-k and ultra low-k ILD modulus capabilities
2002 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 300 Cu是一種晶圓測試和計量設備,設計用於半導體制造過程。系統采用300毫米晶圓尺寸,既可以處理矽晶圓,也可以處理非矽晶圓。它能夠提供臨界尺寸(CD)和光學表面特性(OSP)的光電測量。MetaPulse 300 Cu單元使用KrF準分子激光器,是一種能夠產生納米級精度的短波長激光器。它還配備了光學散射儀,用於測量晶圓表面的光學特性,包括塗層厚度、缺陷的總範圍等等。該機擁有強大的2K CCD線掃描攝像頭,可高速運行,精確測量各種參數。它還配備了用於高分辨率光譜成像的多波長分光光度計,以及用於快速模式識別的電子束圖樣化工具。資產配備了先進的軟件算法和數據處理技術,使其能夠提供高度準確的結果。它支持歷史可追蹤性、數據驅動的統計過程控制以及配置文件數據的圖形可視化。RUDOLPH MetaPulse 300 Cu模型設計用於一系列制造過程,包括晶圓稀釋、快速缺陷模板應用以及叠加優化。它還能夠模擬超淺結,測量掩模配準和臨界尺寸。該設備確保了精確度和吞吐量效率,是任何晶圓廠工藝的理想選擇。其先進的功能和穩健的設計使得它成為任何晶圓制造工藝的可靠選擇。
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