二手 RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu #9395847 待售

RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu是一種高度先進的晶圓測試和計量設備，設計用於半導體制造行業。該系統基於一個強大的200X掃描電子顯微鏡（SEM）設計，以滿足最先進的應用的最高要求。該裝置采用高分辨率成像子系統、高精度偏轉器以及直接和間接電子能譜探測器，可進行高度精確的測量。它能夠在中低光束電流水平下運行，樣品損壞最小。該機器還包括一個功能強大的自動化和數據管理工具，具有定制的報告功能，以及一個先進的樣本分期資產和兩個可互換的腔室設計。這使用戶能夠輕松地為其特定應用程序選擇最佳測量參數。此外,該模型還配備了自動化缺陷定位設備,使用戶能夠在制造階段前後快速準確地識別和表征半導體晶片中的缺陷。NanoProbe 200x-Cu Wafer Analyzer，MetaPulse家族中最先進的計量產品，是一種專門為晶圓級測量而設計的完全集成的掃描電子顯微鏡。它具有自動晶圓處理和階段映射功能,具有自動高速自動化功能,能夠測量和比較15 nm以下的特征大小。它還提供二次電子成像（SEI）和聚焦離子束（FIB）功能,具有數字變焦和圖像增強功能,可進行各種高精度測量。MetaPulse-II 200X-Cu系統能夠進行廣泛的晶圓檢查和分析,包括缺陷審查、臨界維度（CD）計量、叠加配準和監控、電阻率測量等。通過提供靈活、可配置的分析平臺，該單元可用於從晶圓特性測量到缺陷和汙染驗證等多種應用。總之，RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu是一種功能強大的晶圓測試和計量機器，專門設計用於半導體制造工業。它結合了高分辨率成像子系統、高精度偏轉器和電子能譜檢測器，讓用戶能夠準確快速地測量和分析半導體晶片上的精細電子特征。該工具還包括高速自動化資產NanoProbe 200X-Cu Wafer Analyzer,以及旨在為用戶提供靈活、可配置的晶圓測試和分析平臺的一系列其他出色功能。