二手 RUDOLPH MP 300XCU #9384457 待售

RUDOLPH MP 300XCU是最先進的晶圓測試和計量設備。它設計用於對半導體晶片和薄膜基板進行快速、精確的測量。該系統具有一個大的13.6 「x 13.6」樣本室，以容納更大的晶圓和多個薄膜結構的測量區域。憑借其雙面計量能力，用戶可以在晶圓兩側進行精確的薄膜厚度和電氣測量。RUDOLPH MP 300 XCU配備了三重扭矩機械定位單元，以確保基板的快速、平行對準和平面內平坦度，同時提供高分辨率來精確測量低至1um的特征尺寸。獨特的G2移動光學驅動器提供卓越的光學定位精度和穩定性,範圍高達± 50 um,速度高達10 um/秒。高精度、無損光譜橢圓儀能夠精確測量介電光學常數和表面粗糙度降解。內置光譜儀能夠同時測量UV、VIS和NIR波長，分辨率為0.03nm。MP 300 XCU的超高速顯微波光度計有助於識別和定位樣品上的興趣點，以便進一步分析。利用它的高速掃描儀和先進的算法，它可以獲取小至0.5um的特征大小的圖像。該機器還能夠進行詳細的缺陷分析。它具有先進的高放大倍率和高靈敏度圖像處理，具有先進的缺陷表征算法。它還包括深度估計和形狀識別。MP 300 XCU是需要高精度高速計量測量的生產測試環境的理想選擇。它具有先進的計量、成像和缺陷分析功能,是任何晶圓或基板測試應用的理想工具。