二手 ACM Ultra C #293758647 待售
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ID: 293758647
晶圓大小: 8"-12"
Wet cleaning system, 8"-12"
(4) Loading ports
EFEM Aligner and robot
Chuck Type: Mechanical
Clean chemical: DIO3, SC1, SC2, dHF, F water, IPA
(2) Process robots
(12) Process chambers
SAPS Wafer cleaning system
SAPS Mega Sonic: 0-1.5 w/cm²
Uniform supersonic power density: WIWNU <2%
Particle performance: ≤10 at 30 nm
Metal pollution: ≤ 1 x 10^10 atoms/cm²
Throughput: 225 WPH (90s recipe)
Pre-isolation metal deposition
(8) Chambers
Nodes shrink: 65 nm - 22 nm
Model / Chamber number / Chemicals / Robot number / Throughput
SAPS II / 8 (3/2/3) / 3+DI+IPA / 1 / 300 WPH
SAPS III / 8 (4/4) / 2+DI / 2 / 350 WPH
SAPS V / 12 (3/3/3/3) / 3+DI+IPA / 3 / 600 WPH
Drying method:
N2 Rotary drying
Liquid IPA.
ACM Ultra C是一個最先進的濕式站,它集成了先進的技術和功能,可在半導體制造過程中提供高效、精確和可靠的性能。該濕站的設計旨在滿足業界對高生產率和產量的不斷增長的需求,同時確保卓越的質量和對工藝參數的控制。Ultra C濕式工作站是一種通用靈活的工具,可以定制以滿足特定的工藝要求,並適應半導體制造環境中不斷變化的需求。ACM Ultra C濕站配備了一系列提升性能和能力的創新技術。該濕式站的一個主要特點是其先進的自動化設備,能夠對濕式工序步驟進行精確的控制和監測。自動化系統通過最大限度地減少過程中的人為錯誤和可變性來確保一致和可靠的結果。它還允許對濕站進行遠程監控,使操作員能夠優化流程參數,實時排除問題。UltraC濕站的另一個重要特點是其先進的化學輸送裝置。本機設計精密分配化學品和工藝解決方案,具有高精度和重復性。對化學品輸送的精確控制確保了濕工藝步驟的均勻性,並最大限度地減少了結果的變化,從而提高了工藝的可靠性和產量。化學品輸送工具配有先進的傳感器和監測技術,用於檢測和預防化學品泄漏或不當分配等問題,確保過程的安全和完整性。除了先進的自動化和化學輸送系統外,ACM Ultra C濕站還配備了一系列的過程控制和監控技術。這些包括實時監測過程參數,如溫度、壓力、流速和化學濃度。濕式測站能夠收集和分析來自這些傳感器的數據,以優化工藝條件並檢測任何偏離所需規格的情況。這種控制和監控水平使操作員能夠做出明智的決定和調整,以確保過程的穩定性和一致性。Ultra C濕式工作站設計方便用戶且易於操作。它具有直觀的界面,允許操作員設置和監視流程參數、查看實時數據以及有效地排除問題。濕站還配備了內置的安全功能,以保護操作員和環境免受與化學過程相關的潛在危害。這些安全功能包括緊急停止按鈕、泄漏檢測傳感器,以及在發生嚴重故障時自動關閉協議。總體而言,ACM Ultra C濕站是在半導體制造過程中提供高性能、可靠性和靈活性的前沿工具。其先進的技術和功能可實現濕法工藝的精確控制、監控和自動化,從而提高半導體制造的生產率、產量和質量。Ultra C濕式站具有用戶友好的界面和強大的安全功能,是半導體制造商的理想解決方案,他們希望優化濕式加工操作並在競爭激烈的行業中保持領先地位。
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