二手 AKRION AWP #9141985 待售
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ID: 9141985
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Wet process system, 8"
Type : BOE
Install type : Stand alone
Process flow : R -> L
Cassette interface :
(2) Asyst integrated SMIF
(50) Wafer batch loading
Robot handler : Hauser HDX115C6-885
Module configuration :
Mod 1 (Process) : BHF
ƒChem : BHF 400:1
ƒTemp : 23°C
ƒMaterial type : Quartz tank
Mod 2 (Rinse) : QDR (Cold)
ƒTemp : Ambient
ƒMaterial type : PVDF
Mod 2 (Clean) : Gripper clean (GC)
ƒMaterial type : PVDF
Mod 3 (Process) : BHF
ƒChem : BHF 40:1
ƒTemp : 23°C
ƒMaterial type : Quartz tank
Mod 4 (Rinse) : QDR (Cold)
ƒTemp : Ambient
ƒMaterial type : PVDF
Mod 5 (Dryer) : DMG
ƒMarangoni IPA dry
ƒMaterial type : PVDF
Mod 6 (Dryer) : DMG
ƒMarangoni IPA dry
ƒMaterial type : PVDF
Mod 7 (Auxiliary) : AUX
Mod 8 (Buffer) : PP
Mod 9 (Transfer) : Transfer station
Mod 9 (In/Out station) : In/Out
ƒUI, CPU, Monitors
ƒFire extinguisher system (Control panel)
Chemicals :
BHF (PFA material)
IPA (SS material)
Drains :
Main : PVC, 50A
Acid : PVC, 50A
Industrial : PVC, 50A
Reclaim : PVC, 50A
Exhaust :
Acid : PVC, 100A (Flange)
IPA : PVC, 100A (Flange)
Solvent : PVC, 100A (Flange)
Safety interlocks :
Leakage sensor
Temp
Over temp
Exhaust
Sniffer
Ultrasonic dry protect
Heat exchanger
Door sensors
Light barrier
Power requirements : 120/208VAC (25kVA), 60A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
UPS back-up power : 120/208VAC (8.5kVA), 30A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
1996 vintage.
AKRION AWP（Advanced Wet Processing）是由AKRION Systems設計的濕式站。它設計用於各種先進半導體應用中的精密晶圓制造和加工，如前端線下和後端線下（BEOL）工藝。AWP擁有一條完全自動化的濕工藝生產線,占地面積大,吞吐量高。設備配備了一個平臺，能夠同時處理多達二百二十八（228）個晶圓處理插槽，可擴展到四百五十五（455）個。整個系統的模塊化設計以最小的停機和返工提供了較高的過程效率。該站有一個多軸機械臂裝置，用於晶片在前置和後置過程中的無縫運動。機械臂可以被編程為將晶片從一個位置旋轉到另一個位置，並且可以容納多達一百五十五（155）個卡帶和/或載波。機器還配備了串聯晶片掃描儀，讓用戶可以連續檢查晶片表面的均勻性。AKRION AWP包括一個裝有高級計量軟件包的工藝室，提供高精度的測量和分析。集成的數據記錄軟件允許用戶監視和記錄溫度、氣流和壓力等制造統計信息。此外，該站還有一個集成的機器學習算法，能夠準確確定最佳工藝參數，以獲得最佳性能。該站具有廣泛的濕工藝能力，包括自旋塗層、化學濕蝕刻、光刻、化學機械拋光（CMP）和晶圓清洗。它還配備了一系列自動化過程控制系統，包括濕度監測和振動感測，以便進行精確、自動化的過程控制。集成過程控制算法進一步確保了該工具以高效的方式運行。資產能夠處理各種工藝參數，如溫度、壓力、流量、濕度和氣體濃度。此外，綜合安全系統包括一個壓力敏感的安全閥，以防止在加壓環境中發生事故。所有這些特性和功能相結合，使AWP成為市場上最先進、最高效的濕站解決方案之一。AKRION AWP具有強大的設計、高通量和過程控制能力,適用於BEOL和MEMS器件制造等廣泛的前沿半導體應用。
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