二手 AKRION AWP #9141996 待售
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單擊可縮放
ID: 9141996
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Wet process system, 8"
Install type : Stand alone
Process flow : R -> L
Cassette interface :
(2) Tec SEM integrated SMIF
(50) Wafer batch loading
Robot handler : Parker
Module configuration :
Mod 1 (Process) : DSP
Chem : H2SO4/HF 13:1
Temp : 60°C
Material type : PVDF
Mod 2 (Rinse) : QDR (Cold) / CO2
Temp : Ambient
Material type : PVDF
Mod 2 (Clean) : Gripper clean (GC)
Material type : PVDF
Mod 3 (Auxiliary) : AUX
Mod 4 (Dryer) : DMG
Marangoni IPA dry
Material type : PVDF
Mod 5 (Buffer) : PP
Mod 6 (Transfer) : Transfer station
Mod 6 (In/Out station) : In/Out
UI, CPU, Monitors
Fire extinguisher system (Control panel)
Chemicals :
H2SO4 (PFA material)
HF (PFA material)
IPA (SS material)
Drains :
Main : PVC, 50A
Acid : PVC, 50A
Alkali : PVC, 50A
Industrial : PVC, 50A
Reclaim : PVC, 50A
Exhaust :
Acid : PVC, 100A (Flange)
Alkali : PVC, 100A (Flange)
Solvent : PVC, 100A (Flange)
Safety interlocks :
Leakage sensor
Temp
Over temp
Exhaust
Sniffer
Ultrasonic dry protect
Heat exchanger
Door sensors
Light barrier
Power requirements : 120/208VAC (8kVA), 22A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
UPS back-up power : 120/208VAC (7.5kVA), 21A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
2001 vintage.
AKRION AWP(Advanced Wet Processing)是一個為自動晶圓生產而設計的濕式站。它能夠執行各種濕法化學加工任務,如晶圓清洗、表面處理、蝕刻、粘合和光刻。AWP站包含自動濕處理所需的所有組件,包括定制設計的晶片架、機械臂、稱重設備和流體管理系統。晶片固定器設計用於在加工過程中將晶片牢固地固定在適當的位置,確保它們不會滑動或受到汙染。機械臂使用精確編程的運動將晶片精確放置在所需的工作站處理區域。它也可以被編程成精確計量標準體積的液體進入晶圓。稱重單元是一個精確的、反應性的數字標尺,利用復雜的算法感知濕晶片堆棧重量的微小變化,加快了站臺的裝卸速度。流體管理機集成到站內,為晶片提供穩定可靠的液體流動。它還由兩個微流體混合模塊組成,允許對材料進行精確的化學劑量。AKRION AWP站還設有多項安全控制措施,以確保操作員的安全,如防腐性地板、內置警報工具、工作區域周圍的安全圍欄和通風罩,以減少接觸危險液體和蒸氣的風險。此外,AWP還設計了一個防水外殼,以防止水或其他汙染物進入工作空間。總之,AKRION AWP是一個先進的濕加工站,能夠實現高度自動化和高效的晶圓生產。它堅固、安全的設計、精確的機械臂和稱重資產,以及出色的流體管理模型,使其成為一個非常可靠的設備,可以承擔各種濕法化學加工任務。
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