二手 AKRION HL 2000 #9157799 待售

AKRION HL 2000是一個濕式站，設計用於提供一個完整的用於半導體和微電子器件制造的濕蝕刻設備。它是一個通用的平臺，用於蝕刻，清洗和HF酸去除過程。該系統能夠處理多達四個晶片，設計用於壓縮加工時間和減少化學用量。HL 2000配置了具有多個盒式磁帶選項的單個腔室。它具有晶片全自動裝卸過程，腔室設計為防止化學氣和其他汙染物進入裝置。可選的進程控制器允許遠程操作和監視。機器配備了兩個氣體分配系統，因此用戶可以創建自己的工藝配方。真空泵工具提供高達5英寸的汞真空和溫度控制。洗滌器可保護操作員免受危險排氣。AKRION HL 2000還包括濕工藝控制，如回填和前填工藝室。這些控制有助於調節用於蝕刻和清潔的HF酸的量。該資產還采用了先進的綜合化學飼料模型，以實現更高效、更一致的工藝結果。集成控制器跟蹤必要的參數,包括溫度、流速和高級過程控制的時間。該設備還提供先進的綜合過程監測能力，包括室內成像和粒子探測。可選的化學回收模塊有助於降低化學和廢水成本,同時提供更清潔的工藝。總體而言,HL 2000設計為提供安全、集成和可靠的濕蝕刻系統。它能夠為各種半導體和微電子器件提供快速高效的處理，提供高質量的結果。