二手 AKRION UP-V2-HL 2000 #19302 待售

AKRION UP-V2-HL 2000是一個高度先進的濕式站，設計用於處理表面清潔、晶圓蝕刻、柱子清潔等。它是一個集成在單個設備中的多階段加工室，使工作人員能夠分別監測和控制每個步驟的進度。該系統非常靈活，可以容納各種各樣的材料和工藝。該單元從低壓多晶矽晶體蝕刻階段開始，金屬離子用於在納米級蝕刻多晶矽等材料。這個階段之後是一個後清潔階段，其中任何殘留的金屬離子被去除，工件被清洗，以便在這個過程的下一個步驟。接下來的兩個階段涉及高壓幹洗過程。這種高壓幹洗工藝采用熱空氣、氙氣和氧氣的組合，去除不需要的顆粒，增強晶圓表面質量。該機器還能夠控制氣體的溫度以提供高度精確的結果。該工具與各種工藝兼容，包括光刻、光刻、離子植入、擴散和蝕刻。UP-V2-HL 2000配備了高級用戶界面,可直接控制流程的每個階段。這使工作人員能夠快速分析每個階段的質量，並根據需要進行改動，使他們能夠完全控制整個操作。最後,資產配備了緊急關閉功能,可確保實驗室的安全。該型號還配備了自動填充選項，確保工作人員能夠長時間安全地無人值守設備。AKRION UP-V2-HL 2000是一個高度先進的濕式站，可以輕松處理復雜的過程。其用戶友好的界面和靈活性使其成為一系列表面清潔和蝕刻操作的理想選擇。