二手 AKRION UP-V2 SA 3000 #9244629 待售

AKRION UP-V2 SA 3000濕站是一個靈活、高度自動化的晶圓處理平臺，提供半導體晶圓的精密化學表面清洗。它是射頻（RF）元件後端處理使用最廣泛的濕式站之一。這個濕站提供從簡單清潔到復雜蝕刻過程的一系列濕化處理。UP-V2 SA 3000可為各種應用提供高通量和可重復的操作,包括光致抗蝕劑剝離、有機汙染去除和銅條。AKRION UP-V2 SA 3000采用垂直模塊化體系結構設計。配置由一個基模、蓋模、晶圓載波和多個北鬥七星臂組成。基本模塊最多支持十個預先對齊的驅動程序、傳感和控制電子設備模塊。UP-V2 SA 3000的核心是一個先進的高速片上系統（SoC）控制器，它為精確的晶圓跟蹤和視覺提供實時數據。先進的北鬥七星臂為晶圓的精密表面清潔提供手動或全自動操作。AKRION UP-V2 SA 3000配備了一系列獨特的濕法處理化學物質，包括中性和酸性溶液、光阻去除劑、表面活性劑和其他清潔溶液。車站設計有多層內置安全特性。一個自動系統關機功能保護晶片免受危險化學物質的影響，以及一個多晶片安全檢測器監視器，用於晶片幹擾或放置錯誤的晶片。UP-V2 SA 3000采用耐用材料,具有優異的可靠性、耐腐蝕性和耐化學性。該站還設有專用的認證和數據傳輸端口，以便與自動晶圓質量控制系統兼容。此外,AKRION UP-V2 SA 3000還提供網絡功能以提高工作效率。總體而言，UP-V2 SA 3000是一個可靠和直觀的濕式站，用於最先進的半導體晶片表面清潔。該站能夠以高精度、可重復的結果預制高通量過程。AKRION UP-V2 SA 3000具有多種安全功能,旨在提供最佳晶圓保護和直觀的聯網功能,是半導體濕處理設施的理想選擇。