二手 DNS / DAINIPPON FC-3100 #78944 待售

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ID: 78944
Wet station, 12" Cassette Interface: (2) 12" FOUP 4-Tank System: Tank #1: SPM Tank #2: SPM Tank #3: ONB Tank #4: HF CSB1 = NH4OH CSB2 = H2O2 CSB3 = SPARE CSB4 = HF CSB5 = HF Diagram 5L272998-FL273004 LUFRAN Model 144-6UU6-R6 – DI Water Heater Chemicals Used: Hydrofluoric Acid AQUEOUS, IPA, Hydrogen Peroxide, Ammonium Hydroxide, Sulfuric Acid, Carbon Dioxide, N2 Electrical Requirements: V 208, 3-Phase, 3-Wire, 50 / 60 Hz 2007 vintage.
DNS/DAINIPPON FC-3100濕站是半導體制造的高性能、經濟高效的自動化加工平臺。該設備采用先進的自動化和過程控制系統進行設計,以便在整個IC制造過程中減少幹預、最大限度地減少可變性並提高產量。DNS FC3100由兩室濕站處理能力組成。第一個腔室是一個濕工藝模塊,方便晶片的引發、蝕刻、沖洗和清潔。該工藝室由先進的工藝控制系統控制,提供高效、無風險的晶圓加工方法。這包括混合配方,調整溫度和壓力設置,控制腔內液體的流量和水平,以及監測電流狀況。該室還具有精確的壓力測量、自動化的過程控制和板載晶圓分選器。DAINIPPON FC 3100的第二室是幹燥模組,發生在濕製程模組完成後。該室采用熱、化學氣相沈積和直流電濺射工藝的組合,以幹燥晶片,並確保最佳清除多余的液體殘留物。這也有助於消除殘留物清除過程不一致造成的扭曲。晶片幹燥後,晶片分選器會自動對其進行排序和對齊,然後再將其發送到下一個進程。此外,FC3100濕站還設有一個有源故障監視器,該監視器顯示工藝室內的當前狀況,並協助調整與工藝現狀有關的參數。此外,實時反饋和流程知識有助於確保不斷實現最佳結果和效率。通過其高效的設計、集成的自動化和過程控制系統,FC-3100對於那些希望對其晶片進行高性能、經濟高效的處理和過程控制的人來說是必不可少的資源。
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