二手 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293813602 待售

DNS / DAINIPPON SU-3100
ID: 293813602
晶圓大小: 12"
優質的: 2014
Wafer cleaning system, 12" Indexer robot (4) FOUP Carriers (6) Auxiliary units Front PF: Shuttle unit Reverse unit TOWER1: MPC1/2 TOWER2: MPC3/4 Rear PF: Center robot TOWER3: MPC5/6 TOWER4: MPC7/8 Side Cabinet: DDI SC Chemical supply system Chemical type: NH4OH, H2O2, HCL HT‑H2SO4 SC Chemical supply system External cabinet: (2) DHF CC Chemical supply systems, mixing rate: HF49% : DIW = 1–50 : 500 (2) dSPM+ CC Chemical supply systems, circulation temperature: RT–50°C SPM Drain cooling system NanoA Pump unit IPA CC Supply system E‑Flow unit Main power box Power supply 2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100濕站是為半導體制造工藝設計的專用清潔設備。該濕站結合了一系列技術與精密輸送,實現了高精度的清潔性能。它具有先進的視覺系統,能夠對晶片進行上下級檢查,並結合了可以量身定制以滿足用戶需求的手動和自動化工作站功能。DNS SU-3100由一個主單元及其源室、聚合物清潔室、氣體註入室和洗滌室組成。源腔的設計目的是提供化學物質在晶片上的均勻流動,以便清潔。聚合物清潔室利用先進的過濾器在固體到達晶片表面之前將其分離出來,確保表面清潔,不受有機汙染。氣體註入室在清洗過程中添加反應性氣體,以優化每個加工階段的化學反應。洗滌室還配有可編程閥門,用於控制化學品在整個晶片上的流動。這是一個先進的功能,在清洗多個位置的多個晶片時允許更大的控制和準確性。這些組件和單元操作的組合確保了高性能和最小化的過程偏差。DAINIPPON SU 3100還包括一系列輔助設備,以提高本機的通用性和效率。這包括一個減少化學飛濺的化學窗簾和一個多文丘裏清除工具,以盡量減少汙染的風險。還有一個快速幹燥的特性有助於消除顆粒遷移的風險,以及一個渦輪閃光幹燥資產來快速有效地幹燥晶圓表面。DNS SU 3100還具有完全自動化的功能。這允許用戶遠程和即時對作業進行編程和調整流程參數。這樣就可以更快、更精確地進行模型操作,並以最小的幹預來確保最佳性能。此外,SU 3100還包括高級監控和反饋系統,使其能夠實時調整流程以獲得最大的效果。總體而言,DAINIPPON SU-3100濕站是一種功能強大且用途廣泛的設備,旨在滿足半導體制造工藝的需求。憑借其廣泛的功能、先進的精密交付和全面的自動化,該系統能夠實現同類產品中最高的性能和準確性。
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