二手 KC TECH KCT-W300F #293757180 待售
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ID: 293757180
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
PR Stripper, 12"
Process flow: SPM / LAL / SC1
2008 vintage.
KC TECH KCT-W300F是一個最先進的濕式站,專為半導體制造過程而設計,需要在受控環境中進行精密清潔和表面準備。這座濕站經過精心設計,達到了半導體行業要求的高標準的潔凈度和可靠性,使其成為半導體制造設施不可或缺的工具。KCT-W300F濕式工作站的一個關鍵特點是模塊化設計,它便於定制和可擴展性,以滿足不同半導體工藝的具體要求。濕站設有多種工藝模塊,包括清潔、漂洗、幹燥、化學處理等,可配置各種組合,以適應廣泛的工藝序列。KC TECH KCT-W300F濕式站的清潔模塊旨在高效、均勻地清除半導體基板上的汙染物和殘留物。它采用先進的清潔技術,如超聲波清洗、巨聲波清洗和噴霧清洗,確保徹底清除基板表面的顆粒和薄膜,而不會造成損壞或缺陷。潮濕站的沖洗模塊對於確保清潔後基板表面的清潔至關重要。它配備了高純度的水再循環系統和過濾裝置,提供超清潔的沖洗水,以去除基質表面殘留的任何雜質和殘留物,使其保持原始狀態,準備進一步加工。KCT-W300F濕站的幹燥模塊利用熱空氣吹制、紅外輻射和自旋幹燥等先進技術,在不留下任何水印或汙染物的情況下,快速有效地幹燥基板表面。這樣可以確保基材在進入下一個工藝步驟之前完全幹燥並且沒有任何水分。除了基本的清潔、沖洗和幹燥模塊外,KC TECH KCT-W300F濕站還設有一個化學處理模塊,允許通過應用各種化學溶液對基板進行表面修改和功能化。該模塊配有精密配藥系統和溫控浴,以確保針對不同工藝要求進行準確、可重復的化學處理。KCT-W300F濕式工作站采用用戶友好界面設計,可輕松訪問所有流程參數和控制設置。它配備了先進的監控和診斷系統,可持續監控流程狀況,並向用戶發出任何偏差或異常的警報,確保操作的一致性和可靠性。總體而言,KC TECH KCT-W300F濕式站是半導體制造商的前沿解決方案,旨在為其先進的半導體器件實現高質量、可靠的清潔和表面準備。它的模塊化設計、先進的清潔技術和精確的過程控制功能使其成為一種用途廣泛且高效的半導體加工應用工具。
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