二手 RENA Wetbench #9049830 待售

RENA濕工作臺是一種實驗室工作站，設計用於使用濕化學工藝安全處理晶圓和其他基板。它通常安裝在帶帽環境中,並配有一套專門的工具和設備,如濕式工作臺、化學儲罐、表面管理系統、FOUP系統和工作站。RENA濕板凳適用於濕條、光刻、蝕刻、清潔、化學機械平面化、沈積、鈍化等多種工藝。由不銹鋼建造，保證長期耐用。由於其環氧塗層的底座和側面，較標準濕式長凳較不易腐蝕，更容易清潔。其底座設計為防漏，同時仍提供基本的穩定性。它還包括必要的公用事業，如架空不銹鋼廢氣、水沖洗系統和地板排水溝。Wet Bench的主要特點是其擴展的工作表面，用於較大的基板和帶有速效刮水器的晶片。它安裝有可調節的PID系統,可幫助將溫度和濕度保持在最佳水平。為保證操作一致，將工作面加熱冷卻至理想溫度，讓用戶根據自己的具體工藝要求調整平均熱傳遞速率。RENA Wet Bench還包括幾個附加功能以提高其效率。例如，工作臺設計有一個CMP溢流槽，將固體顆粒或「細」與工藝中使用的液體分離。這有助於保持工藝環境的清潔和盡量減少汙染。此外，工作站還配備了若幹控制裝置，以監測確切的化學和工藝參數。這將汙染晶片的可能性降至最低，從而降低生產延誤和成品缺陷的風險。總之，濕板凳是一種在實驗室環境中處理基材和晶片的高效、安全的解決方案。其堅固的結構確保了耐用性,而其可調節的特性、溫度控制和擴展的工作表面使其最適合於各種工藝。