二手 RISE Wet bench #293736951 待售
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ID: 293736951
優質的: 2014
(2) Thermal chiller circulators
(2) 280L Sump tanks
(4) Drain pump
(2) Wasted chemical tanks
IPA Dryer
Inline heater
Quartz Tank
Megasonic transducer
Megasonic generator
Touch screen
Robot / Controller
H2O2 Spiking
Aluminum 80% plastic 20%
Power supply: 220 V, 50/60 Hz, 107.364 kVA
2014 vintage.
RISE濕式工作臺,又稱濕式工作臺,是一種專門用於半導體制造和研究設施的實驗室設備,用於需要化學處理和液體浸入半導體晶圓的濕工藝。「濕板凳」一詞是指為濕化學加工而設計的實驗室工作站,設有多種化學浴池和水箱,用於蝕刻、清潔和表面處理程序。RISE Wet bench是一款高級濕式加工設備,以其先進的特性和高性能著稱。濕板凳配備堅固的不銹鋼框架,提供結構穩定性和耐化學性,確保安全可靠的濕加工環境。該系統旨在處理廣泛的工藝化學和應用,使其適合研究和生產環境。RISE濕式工作臺通常配置有多個化學浴、沖洗池和幹燥站,允許以受控方式進行順序處理步驟。濕式臺階的一個關鍵特點是其先進的控制單元,它允許精確調節溫度、流量和過程時間。該機器配備了最先進的傳感器和監控設備,以確保一致和準確的過程結果。用戶友好的界面使操作員能夠輕松編程和監控過程參數,使其成為研發活動的理想工具。RISE Wet Bench旨在容納多種工藝模塊,包括濕蝕刻、晶圓清洗、表面處理和化學沈積。每個模塊都可以輕松集成到工具中,從而在流程開發中實現靈活性和可擴展性。濕式工作臺為每個工藝模塊配備專用的化學管線和排氣系統,確保工藝純度,防止不同化學之間的交叉汙染。RISE Wet Bench除了其先進的處理能力外,還在設計時考慮了操作員的安全。該資產配有安全聯鎖、緊急停機機制和化學泄漏遏制功能,以盡量減少發生事故和化學暴露的風險。濕式工作臺的設計也符合化學處理和加工的行業標準和法規。RISE濕式板凳常用於半導體制造設施,廣泛應用,包括矽片蝕刻、光刻層去除、晶片表面清潔、薄膜沈積等。該模型的高吞吐量能力和過程可重復性使其成為優化生產產量和確保高質量設備性能的重要工具。總體而言,Wet Bench是一種用途廣泛且可靠的濕加工設備,它為各種半導體加工應用程序提供先進的功能、精確的控制和操作員安全。其強大的設計、靈活性和性能能力使其成為半導體研究和制造設施的重要工具,這些設施在濕式化學加工方面力求卓越。
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