二手 SCHMID 61 #9123406 待售

SCHMID 61
濕製程設備
製造商
SCHMID
模型
61
ID: 9123406
優質的: 2008
Chemical etcher PSG Etching plant Wafer details thickness: 120 - 170 μm Format (5 Lanes): 156 x 156 mm Wafer distance: 15 mm Working speed: 1.14 m/min Ambient temperature: 0 to +55°C Media list: HCL Hydrochloric acid HF Hydrofluoric acid NAOH Sodium hydroxide HNO3 Nitric acid H2O Water Power supply: Operating voltage: 400 V, 50 Hz Voltage supply: AC/DC 20-53 V, 48-63 Hz AC: 110-240 V +10% / -15%, 48 -63 Hz Electrical power consumption : 58 kW Electrical current consumption: 128 A 2008 vintage.
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SCHMID 61是一個濕式站，主要用於處理用於生產太陽能光伏（PV）系統的平板。設計用於清潔、蝕刻、激活平板基板表面，如鋁、不銹鋼、銅等。該系統利用化學溶劑、水溶液和電化學工藝有效處理面板表面。61濕站包括一系列的水箱、水泵和一個為生產最高效率而設計的輸送機系統。在過程開始時,將一個面板放置在傳送帶上,該傳送帶沿一個軸進行傳送帶。當面板沿著輸送機移動時，它穿過彼此相連的各種罐體。第一罐裝有用於清潔面板的化學溶劑。使用噴射器和旋轉刷子的組合，任何碎屑或雜質從面板表面除去。在第一個儲罐後，用水溶液噴塗面板，以幫助清除殘留的殘留物。下一個罐體裝有蝕刻溶液，用於進一步氧化基材。蝕刻過程有助於激活面板表面，使其準備用於光伏沈積。當面板從水箱中移出時，噴射器用清水沖洗，以確保不會殘留蝕刻溶液。濕站的最後一站是電化學活化罐。在這個儲罐中，一個電流通過基板，增加了材料的電導率。一旦面板完成濕站工藝，就可以快速運到光伏沈積站，塗上光伏材料保護層。SCHMID 61濕站確保面板正確準備沈積，以確保最終產品的最佳電氣和材料性能。
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