二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius+ #293757163 待售
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單擊可縮放
ID: 293757163
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Wet bench, 12"
Process flow: CHCL-CWS-SD2-SD2-HQDR-SC1(MS)-HQDR-SC1(MS)-HQDR-SPM
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個濕式站，提供廣泛的設備制造工藝。它采用自動化的模塊化系統，允許同時使用多種工具，包括單晶片自旋過程、自旋清潔過程、氣相沈積過程、基板塗層過程、物理氣相沈積過程以及現場可視化和分析過程。TEL Expedius濕站可用於單晶片自旋過程，這是晶片首先塗上特定溶液，然後以可變速度和角度旋轉，以便在晶片表面沈積薄膜層的過程。這通常用於半導體器件的薄膜沈積。該站還采用自旋清潔工藝，使用自旋清潔在沈積後清潔晶圓表面。TOKYO ELECTRON Expedius也有幾個氣相沈積過程，涉及使用反應性氣體在真空室中沈積薄膜層。該工藝通常用於介電層、柵極氧化物、氮化物、聚合物以及許多其他材料。濕式站還能進行基板塗層工藝，涉及粘貼、矽膠、各種膠水等材料在晶片表面的應用。基板塗層工藝廣泛用於晶圓的鈍化和封裝等應用。Expedius濕站還設有物理氣相沈積（PVD）系統，能夠通過使用等離子體、電子束蒸發、濺射等方式沈積薄膜層。這一工藝可用於沈積許多不同的薄膜金屬，如鋁、鈦、銅，以及許多其他類型的塗層。TEL/TOKYO ELECTRON Expedius還提供現場可視化和過程分析工具，旨在確保以一致的方式進行過程。這些工具用於測量厚度變化、測量臨界尺寸以及與正在制造的結構相關的其他參數。這樣可以確保每批晶片都能獲得所需的結果。總體而言,TEL Expedius是一個用途廣泛的濕式站,它為設備制造提供了一系列過程,有助於提高制造過程的精度和速度。
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