二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293757165 待售
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ID: 293757165
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12"
Process flow: CHCL-CWS-SD2(HF)-SD2(HF)-OF-LAL(HF17%)-HQDR-SC1-HQDR-SPM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一種專門為半導體製造而設計的濕式工作臺。它用於半導體凈化室環境，在半導體凈化室環境中，需要精確和可靠的環境控制，以最佳保護敏感盒式磁帶和晶圓運載船免受微粒汙染。濕式站設有精確可靠的機電集群，提供精確的溫度、壓力和速度控制，確保精確的對準、清潔和可靠。該站還包括一個濕清潔站（WCS），為晶圓的清潔和幹燥提供一個安全、受控和統一的環境。WCS利用有機堿性清潔劑來精確控制清潔和幹燥過程，而內置的幹填充模塊則確保晶圓的最佳幹燥。集成高壓清洗站在單一過程中進一步消除了高達3%的顆粒汙染，同時提供了精確平衡的溫度設置，以保證晶圓處理的一致性和一致性。TEL Expedius濕站還包括一個Graining Oven-Etcher and Photorest Treatment模塊，該模塊提供對口罩、抗蝕劑和其他加工劑的自動化、高效和一致的處理。該模塊為精細蝕刻工藝提供精確的溫度和壓力設置，還配備了多種內部測試系統。蝕刻和光致抗蝕劑處理模塊使晶片表面上的蝕刻溶液具有精確的均勻性，從而獲得一致的高質量結果。集成的微氣體噴射器通過精確註入特殊揮發性有機物質，進一步防止了工藝步驟中晶圓表面的汙染。該站還提供自動、準確和預定的汙染物限值，確保最大效率和可靠性。此外,它還提供了一個精確的數字氣體噴射器控制器和氣體分配系統,以提供一致的性能.最後，TOKYO ELECTRON Expedius濕站設有晶圓采集站（WAS），設計用於在超低溫下以最小的汙染安全轉移樣品或裝置。WAS包含鎖定機制和超低溫（ULT）溫度控制器,使工藝溫度保持在-25°C以下的精確調節。最後，Expedius濕站為用戶提供了一種高效、可靠、準確的清洗、蝕刻和處理晶片的方法。其精密的設計為用戶提供了一種在清潔室環境中進行半導體器件處理的多合一方法，其用於汙染預防、溫度和壓力控制的集成模塊確保了性能的一致性。
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