二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9038418 待售
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單擊可縮放
ID: 9038418
Wet benches, 12"
Basic config: Bath configuration: LD-FIMS-SPM-HQDR-SC1-HQDR-SC1-HQDR-FRD-FRD
Load/unload port: 2 (common)
Wafer size: 300 mm
Batch Size: 50 Wafer
Software: SECS2
Mecha: Motor, servo motor
(3) Robots
Chuck: Quartz
SPM Bath: Matrial Quartz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: H2SO4,H2O2
Wafer Guide: Quartz
QDR Btah: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical: DIW.Hot DIW
Wafer Guide: Quartz
SC1 Bath: Material Quarz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: NH4OH,H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical DIW/HOT DIW
FRD Bath: Material PVDF
Chemical IPA, DIW
Wafter Guide: PVDF
2006 vintage..
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個半導體製造與開發的濕站。它是處理小規模半導體元件和晶圓的通用、低成本的解決方案。它設計用於低成本制造、薄膜沈積、光刻成像、蝕刻、化學氣相沈積（CVD）和抗蝕劑加工等廣泛應用。TEL Expedius使用強大的硬件平臺和軟件定義的控件來實現卓越的性能和吞吐量。TOKYO ELECTRON Expedius配備了用於精確晶圓處理的微米精度刀架、數字成像設備（DIS）、用於成像和計量的掃描電子顯微鏡（SEM）、用於快速圖像掃描的FEM光學數字成像系統（ODIX）以及用於過程自動化的CORNERSTONE ONE過程控制數據管理單元。該機還包括高功率變頻射頻（RF）發電機、高功率熱源、用於精密晶圓加工的高速精密X/Y運動臺，以及精密粉末分配工具。該資產還具有用於流程控制、流程監控和流程優化的SDTM-2000流程自動化軟件。該軟件旨在通過允許用戶監控和控制過程參數（如氣體壓力、氣體流速和溫度）來幫助實現最佳的整體模型性能,以確保從晶圓到晶圓的一致結果。Expedius還具有高級流程管理功能,如經過時間記錄器、事件計數器和流程日誌。這些功能允許精確的過程跟蹤和優化。此外,該設備支持獨立裝卸樣品,從而提高吞吐量並實現更高水平的自動化。TEL/TOKYO ELECTRON Expedius旨在滿足半導體行業苛刻的要求，提供卓越的性能、精度、可重復性和可擴展性。它為小規模半導體元件和晶圓的加工提供了一個經濟高效的解決方案，是行業中任何濕式站應用的絕佳選擇。
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