二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353546 待售
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ID: 9353546
晶圓大小: 12"
Wet bench, 12"
Process: APMA Rec-Clean
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PVDF
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Mixing Ratio: HCL:H2O 1:240/1:500
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O 1:4:130/1:1:125
Megasonic: SSDM 2800 W
Heater
YY5611203J Filter
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
(2) QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
HF/EG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing Ratio: HF/EG
1:10: 65°C
1:50: 60°C
Cold DIW: 4
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-158-F1 Concentration monitor
BSG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 60°C
Mixing ratio: HF:H2SO4 1:5/1:30
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-133V Concentration monitor
2004-2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個濕式站，為晶圓製造、光刻和其他工藝的整合提供高效可靠的平臺。該平臺提供溫度穩定性、過程控制和提高產量。它是一個配備了最新濕法和激光技術的多用戶平臺。它提供了一套全面的功能和創新，包括自動化模具裝載，一個uprig遮蔽設備，以及一個改進的空氣疏散系統。TEL Expedius Wet Station旨在提供一個穩定、機器級的平臺，用於流程集成和性能優化。其開放式架構設計采用8軸運動單元和伺服驅動機器，以確保精確穩定的運動控制。其專有的驅動模式和重復算法旨在確保該站能快速平穩地達到穩態，同時最大限度地減少湍流。它還提供了一種先進的溫度控制工具，在處理過程中確保濕平臺上的溫度均勻、恒定。TOKYO ELECTRON Expedius Wet Station配備了多種裝卸機制，可與各種工藝工具快速輕松集成。其專門設計的氣動設備和自動模具加載功能確保了快速、方便的設置。它還提供了一個先進的激光標記模型，提供極好的分辨率和準確性與最小的粘力。自動上架遮蔽設備便於在用戶幹預最少的情況下進行旋轉塗層、蝕刻和烘烤等過程。此外,Expedius Wet Station旨在通過提供晶圓制造、光刻和其他工藝的集成方法,最大限度地提高工藝產量並降低成本。該站強大的報告能力允許對流程性能進行全面分析。其先進的過程控制系統確保了穩定和可重復的結果。此外，其先進的空氣疏散裝置確保減少空氣中的顆粒汙染。總之，TEL/TOKYO ELECTRON Expedius Wet Station是一個全面、多用戶的平臺，為過程集成和性能優化提供了一個穩定可靠的平臺。該工作站的先進功能和創新確保了極佳的產量,並減少了用戶的幹預。其先進的工藝控制機器可確保重復和可靠的結果，同時其空氣疏散工具可確保減少顆粒汙染。總而言之，該站提供了一個可靠高效的平臺，最大限度地提高工藝產量，並將成本降至最低。
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