二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353547 待售
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ID: 9353547
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12"
Process: RECA Rec-clean
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PVDF
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Mixing ratio: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000
Proportion 1: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:130
Megasonic: SSDM 2800 W
Heater
YY5611203J Filter
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
(2) QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
HF/EG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF/EG
1:10: 65°C
1:50: 60°C
Cold CIW: 4
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-158-F1 Concentration monitor
BSG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 60°C
Mixing ratio: HF/H2S04, 1:5 / 1:30
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-133 V Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是由TEL Limited（TOKYO ELECTRON）開發的優越濕站設備。它旨在最大限度地提高半導體器件制造商的技術兼容性、自動化、靈活性和吞吐量。TEL Expedius濕站系統為半導體行業提供集成的全自動處理技術，使其成為蝕刻、清潔和其他相關工藝最先進的系統之一。該單元與標準的TEL/TOKYO ELECTRON蝕刻、條帶和沈積技術兼容，此外還有一系列集成蝕刻/條帶和沈積/條帶技術，TOKYO ELECTRON Expedius濕站的設置包括一個腔室、一個旋轉頭和一個全自動機械臂，全部裝在耐用的不銹鋼外殼內。該室具有超高溫性能，為蝕刻工藝提供了統一的環境。此外，該腔室有專利旋風設計，使機器能夠繪制、收集和過濾制造過程中產生的粒子和碎片。機械臂由觸摸屏界面控制，提供定位精度、均勻蝕刻深度以及保證產品特性一致的均勻環境。機械臂可用於濕蝕刻和清潔過程，包括一系列蝕刻/試紙和沈積/試紙操作。Expedius濕站還具有動態界面,可與生產組件進行通信,並便於過程監控和生產數據記錄。這樣就可以跟蹤流程以確保質量和不斷改進。此外，接口還設有連接多個TEL/TOKYO ELECTRON Expedius濕站的連接器，以提高吞吐量。總體而言，TEL Expedius濕站工具是半導體器件制造中蝕刻、清潔等相關工藝的先進解決方案。TOKYO ELECTRON Expedius具有高溫兼容性、旋風室設計、機械臂、動態接口等無與倫比的特性,並提高了吞吐量能力,為設備制造商提供了卓越的工藝性能和效率。
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