二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353549 待售
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ID: 9353549
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR-Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 70°C
Mixing ratio: HCL:H2O, 1:500
Proportion 1: NHO3H:F2O2:H2O, 2:3:100 / 1:4:130
Proportion 2: HCL:H2O, 1:240 / 1:500
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 1:4:20
Megasonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
QCVZ-ATM-TS Filter, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C
Mixing ratio: H2SO4:H2O, 5:1
Cold CIW: 40-60 l/min
NSPH-55KML Pump
COOLNICS AIH-64QS Heater
(2) LDFHTIGPK16E72-K7 Filters, 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個濕式站，設計用於服務薄膜半導體器件。該站由一個工具基座、晶片級、沖洗站、轉移模塊、過程模塊和機器人臂組成。工具基座是為同時處理多種基板而構建的定位平臺，允許濕工藝模塊和沖洗模塊方便準確的轉移和放置。底座由固定主體、滾筒和X-Y運動平臺組成，用於工藝模塊的對齊。晶片級是一塊專門的金屬板，用來容納一個晶片，單個雙面膠帶貼在站臺底部。此板易於放置在刀具底座上,以便輕松訪問工具庫的流程模塊。沖洗站是一個聯合滅菌和幹燥站，旨在快速有效地清潔和幹燥半導體器件。該站采用去離子水、先進系統解決方案和熱半幹空氣相結合的方式進行清潔。傳輸模塊包括托盤系統（PS）和工藝精密傳輸室（PPTC）。PS允許晶圓精確傳輸到轉運站，在那裏PPTC可以精確控制晶圓的XYZ坐標，以最大程度地減少處理任務的位置變化。工藝模塊由UV Exposure head、Gold or Chromium Sputter工具、Evaporation工具和Wet Process Chamber組合而成，在半導體表面上創建超細結構。所有這些模塊都連接到刀具底座和晶片級，使得晶片的處理更加容易和精確。最後，機器人手臂是一種三軸機器人手臂，用於在工作站的工藝模塊上精確快速地旋轉、移動和沈降晶片。手臂還可以將晶片從一種基材運輸到另一種基材，以便於對準和放置。TEL Expedius旨在為基於薄膜的半導體器件提供準確高效的處理。該站可以一次處理多個晶片，允許高吞吐量的結果。此外，其專門的沖洗站、轉移模塊以及加工模塊和機器人臂提供了精確和優化的處理結果。
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