二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353550 待售
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ID: 9353550
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR-Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O
Megasonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
TRCXATEB1K Filter, 0.02 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPTRVXATE4SM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C
Mixing ratio: H2S04:H2O, 5:1
Cold CIW: 40-60 l/min
NSPH-55KML Pump
COOLNICS AIH-64QS Heater
(2) LDFHTIGPK16E72-K7 Filters, 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個濕式站，半導體加工中使用的一種半導體器件制造設備。它能夠處理多個過程，如化學氣相沈積（CVD）、電化學沈積（ECD）、物理氣相沈積（PVD）等。它主要用於生產集成電路（IC）芯片。濕式站的設計是為了滿足先進半導體技術的需求，並具有一系列選項，以滿足生產過程的各種需求。濕站核心系統由處理器、控制器和人機接口（HMI）組成，允許操作員手動控制流程步驟。處理器和控制器負責控制控制過程的各種參數，並在過程中對不同參數進行調整。這包括設置正確的溫度和壓力值，以確保整個晶片過程的均勻性。HMI允許操作員設置流程環境並運行所需的流程。除處理器和控制器外，濕站還設有各種清潔系統，以清除可能影響IC芯片的可加工性和性能的不需要的汙染物。這些系統的設計考慮到了特定的目的，可以包括使用過濾氣體、特殊溶劑、氣溶膠和其他清潔劑。在過程控制方面,TEL Expedius采用了多種計量設備.其中包括光學檢查工具、氣體霧化器以及各種型式的輪廓測量工具。計量設備用於測量工藝結果，如圖樣特征和層的厚度。然後,如果需要,將使用此信息調整工藝參數,以獲得所需的結果。TOKYO ELECTRON Expedius附有多項安全功能，如火災探測、溫度壓力感應器、氣流感應器等。所有這些措施都旨在為操作員提供一個安全的工作環境。Expedius是一個強大可靠的濕站。它能夠生產具有精確過程控制的高質量IC芯片。工藝選項和計量設備的範圍使操作員能夠產生統一和精確的輸出。安全功能確保了操作員的安全工作環境，而設備本身為高效的IC芯片生產提供了可靠可靠的性能。
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