二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353551 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
濕製程設備
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Expedius
ID: 9353551
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12" Process: SPMC PR Strip Load / Unload module: Transfer module: Dryer SD2: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 l/min POU (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 65°C Mega sonic: SSDM 2800 W Cold DIW: 40-60 l/min Hot DIW: 40-60 l/min Heater HF-960M Concentration monitor SC1 (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 35°C Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O Mega sonic: SSDM 2800 W IWAKI FW-40-T Pump AIH-124QS CS Heater with WJ Filter:TRCXATEB1K 0.02um HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor HQRD: Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 65°C Cold DIW: 40-60 l/min Hot DIW: 40-60 l/min SPTRVXATE4SM: Guide material: QUARTZ Process bath material: QUARTZ Temperature: 110°C / 140°C Mixing ratio: H2SO4:H2O 10:1 Cold DIW: 40~60L/min Pump: NSPH-55KML Heater: COOLNICS AIH-64QS (2) Filters LDFHT1GPK16E72-K7 0.2 µm HORIBA CS-150 Concentration monitor 2006 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個為過程開發和設備原型設計的濕站。設備由晶片掃描系統和單晶片加工室組成，獨立於模塊化PE II（工藝外殼）框架內。濕站設計用於處理直徑達300毫米（15厘米）的晶片，用於各種濕化學過程，如抗蝕條、氧化物蝕刻、自旋漂洗幹燥（SRD）操作以及其他必要的清潔操作。掃描單元由用戶友好的圖形顯示操作,可實現對晶片表面的精確過程控制。該設備配置有一個集成的微控制器，用於控制曝光時間、曝光次數、氣體流量以及其他掃描參數。旋渦式烘幹機是濕式化學操作後幹燥晶片的一種選擇。晶圓加工室包括高精度、雙面平行板式的加工室，使工藝性能和重復性最大化。腔室的不銹鋼結構輕巧，耐腐蝕。腔室可以配備集成氣體機，允許在加工過程中註入揮發性化合物或耐腐蝕材料。該工具與酸、堿、溶劑和表面活性劑等多種化學物質兼容。該工藝室的精確設計實現了均勻的劑量和蝕刻性能，這對於可重復設備處理至關重要。該室可以很容易地重新配置為不同的客戶應用不同的化學。該資產具有內置的安全功能，包括自鎖容器、危險氣體探測器、雙氣體閾值測量、密封安全室門等，防止外來氣體引入操作環境。此外,該模型還能夠精確控制曝光時間和均勻性。此外，它還配備了監測軟件，可以記錄、跟蹤和分析過程數據，供今後參考。TEL Expedius濕站是一種可靠、靈活、可靠的設備，專為工藝開發和設備原型設計。濕式加工站具有直觀的圖形界面和高精度的雙面加工室，非常適合要求精度和可重復性的應用。
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