二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9124710 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z濕站是一種用於半導體基板件的高精度清潔幹燥設備。它提供可靠的性能和高效的操作,以確保統一、一致和美觀的結果.濕站為各類基材的脫脂、蝕刻、幹燥工藝提供了綜合解決方案。該站采用細長、733毫米深度、一件式結構，使實驗室或生產線前部空間最大經濟性。TEL UW200Z是為實現最佳的流程效率和一致性而設計的,允許在操作人員的最低幹預下保持一致的性能。TOKYO ELECTRON UW 200 Z濕式站具有可靠的雙波形交流電源電源,具有更大的工藝靈活性。它可用於脫脂、蝕刻和幹燥過程，並附加用戶選擇的功能，如背部幹洗、鎖定和現場板（Fplate）清洗。雙波形交流電源能夠精確控制溫度，以實現更一致的表面幹燥。增加板加熱功能有助於最大限度地減少熱量損失並確保精確的溫度控制。TEL UW-200Z提供兩種可定制的清潔工序：低溫清潔和高溫清潔。低溫清洗過程從脫脂步驟開始，然後進行冷沖洗和熱沖洗。這一過程減少了所需的化學品和能量。高溫清洗過程采用後門連接，涉及酸性脫脂步驟，後跟熱洗，用熱水進行蝕刻過程。在幹燥方面,TEL UW 200 Z采用了一種信任幹燥計劃,可最大限度地提高幹燥速度並最大限度地減少異物的粘附。幹燥信任計劃的工作方法是利用清潔過程中產生的氣流，並將空氣與加熱相結合。加熱後的空氣增加了幹燥過程的效率，最大限度地降低了缺陷的風險。UW-200Z還配備了可選的氣刀系統，用於分離基材的顆粒和液體。氣刀單元通過使用高壓氣流來分離液體和顆粒，使基板幹燥速度更快，效率更高。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON UW200Z濕式站是一臺先進可靠的清潔和幹燥機器，旨在滿足半導體行業對質量元件不斷增長的需求。它提供了工藝靈活性、精確的溫度控制、兩種可定制的清潔工藝,以及高效的表面幹燥信任計劃。