二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9278994 待售

TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z
ID: 9278994
晶圓大小: 8"
優質的: 2004
Batch wafer processor, 8" Dry-in / Dry-out Install type: Thru-the-wall (TTW) Automated load/Unload Application: Pre-diffusion clean Bath: 1: POU (Point of Use, configurable) 2: SC1 3: SD2 (HF / IPA Dry) Typical process flow: POU (HF )-> QDR -> SC1 -> QDR -> SD2 Includes: Cabinex CO2 fire suppression system LUFRAN 130-6HH6 DIW Heater UPS For computer only (installed on tool) UPS For full system (stand-alone unit) 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z Wet Station是為集成電路裝置的自動化制造而設計的頂級濕化學處理設備。TEL UW200Z采用工業級結構,以最佳的精度和一致的可靠性而設計。TOKYO ELECTRON UW 200 Z具有兩個用於材料供應設備(MSS)的工藝儲罐和兩個最高溫度可達370°C的標準儲罐尺寸。這兩個流程庫都具有自動流程控制功能,可用於自動流程運行和監控。該站的冷卻系統由兩塊冷卻板組成,可針對兩個不同的溫度要求分別控制。每個罐子都裝有一個工具料鬥,允許插入基板和清潔工具。MSS工藝儲罐使用一系列的泵和排水和填充裝置,使用DI或 DI&DI水填充和排出儲罐。這兩個儲罐還設有氣泡板清潔機,以取代排氣,盡量減少氣泡,並改善基板清潔。TOKYO ELECTRON UW200Z提供了多種工藝模塊來支持集成電路設備的自動化制造。這些模塊包括厚膜條擠出機、多孔層壓和隔離擠出機(PI),以及沸騰抑制劑應用(BIA)。厚膜條擠出機用於生產厚度均勻、耐濕性優良的厚膜電阻條。多孔層壓和隔離擠出器(PI)可確保精確定位,並與均勻無空隙層壓和電隔離所需的基板進行正確的保形接觸。BIA與PI模塊集成在一起,提供平滑的共晶鍵。此外,該站還包括一個基板運輸工具,用於通過三個工藝罐運輸基板。該站還設有智能基板管理資產(SSMS),用於識別基板並在三個工藝罐中進行最佳運輸。TEL UW 200 Z Wet Station是尋求在濕法化學加工中的頂級精度和可靠性的理想選擇。TEL UW-200Z具有全面的模塊和自動化過程,提供無與倫比的多功能性,為集成電路設備的制造提供了無與倫比的速度和準確性。
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