二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300 #9098651 待售

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300
ID: 9098651
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300濕式站是一種設計用於半導體濕式加工的可靠、經濟的設備。TEL UW-300能夠在其150毫米盒式磁帶上精確、快速地處理尺寸達150毫米的小型基板。該系統通過高通量、精確的溫度和運動控制,以及管理小型基板的優化功能,提供了出色的工藝重復性和產量。TOKYO ELECTRON UW-300具有大室容量和高效回收裝置的化學用途.這對於需要極端溫度或獨特化學浴的潮濕工藝特別有用。采用模塊化架構,機器可以量身定制,以支持各種濕法工藝,如精密蝕刻、濕洗、化學沈積和電鍍。該工具集成了一個卡帶處理單元,以自動化卡帶的裝卸。此功能有助於簡化整個過程,減少汙染並提高產量。此外,流體中央控制資產可以實現精確的溫度和流量控制。這對於實現穩定的流程輸出至關重要。UW-300能夠精確控制過程。它使用電阻加熱元件和遠紅外(Femto-IR)溫度傳感器提供精確的溫度控制。它還采用了精確氣源去離子化(SDI)控制模型來管理精確的氣流。該設備還提供精確的定時控制以及精確的運動控制,以精確地輸送配料。TEL/TOKYO ELECTRON UW-300具有獨特的自動化監控系統,用於測量腔室設置、環境溫度和基板溫度,並提供時間戳信息,以生成易於審查、測試和優化的工藝日誌和配方。該單元還包括一臺板載數據記錄機,用於在處理過程中收集操作參數,以改善過程控制並減少故障排除時間。此工具有助於最大限度地提高產量和生產率。總體而言,TEL UW-300濕式工作站為尺寸不超過150毫米的小型基板提供一致、可重復的濕式加工。其高吞吐量、精確的溫度和運動控制,以及管理小基板的優良特性,使得生產可靠,工藝吞吐量優化。TOKYO ELECTRON UW-300是一種可靠且經濟的資產,旨在幫助優化濕法加工.
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