二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300 #9098652 待售

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300
ID: 9098652
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Wet bench, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300是半導體工業中用於工藝開發和器件制造的濕站。該濕站設計用於淺溝隔離和淺溝蝕刻等低壓過程。它還能夠生產用於3DIC和MEMS等技術的復雜結構。TEL UW-300具有獨特的高溫低壓工藝室設備,該設備由石英和不銹鋼制成,建在剛性框架上,有助於最大限度地減少整個腔室的溫度變化並確保均勻性。其先進的等離子體系統旨在產生高效的低壓處理環境,使其成為蝕刻工藝的理想選擇。TOKYO ELECTRON UW-300還具有許多過程控制和安全功能。其中包括一個自動過程控制器,用於監控和調節溫度、壓力和其他過程參數,以及一個專利的放電抑制裝置,有助於維護過程的完整性和安全性。UW-300具有許多功能,使其成為流程應用程序的通用選擇。它最多可容納四個工藝室,每個室都有一個不同的工藝室氣體輸送單元和一個內置的氣體歧管和真空泵,允許它一次處理各種工藝氣體。它的可編程計算機控制器能夠處理多達八種不同的晶圓配方和參數,從而能夠快速、方便地設置復雜的過程和條件。此外,TEL/TOKYO ELECTRON UW-300的設計采用了直觀的用戶界面,使用戶能夠查看當前流程信息並根據需要進行調整。這個潮濕的車站也被設計成易於維護和清潔。它具有自動化的晶片裝載機/卸載機,減少了手動裝卸晶片的需要,並擁有集成的晶片轉移機器人機器,因此清理過程殘留物可以快速、容易地發生。此外,TEL UW-300有一個內置的耐化學噴霧噴嘴,用於有效清潔加工室和石英管。總體而言,TOKYO ELECTRON UW-300是一個先進的濕式站,旨在為工藝開發和設備制造提供統一的工藝和安全特性。它的多功能性和便利性使其成為半導體行業的絕佳選擇。
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