二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z是一個濕式站，適用於晶圓清洗、蝕刻、薄膜沈積等多種半導體相關工藝。它與濕法和幹法都兼容，可用於從淺溝隔離（STI）到化學機械拋光（CMP）的應用。TEL UW300Z具有自動化的工具控制系統,允許對工具和過程進行自動調度,以及跨多種工具的統一化學方法。TOKYO ELECTRON UW 300Z外殼由堅固的不銹鋼製成，製程室是一種低調的設計，容納直徑達300 mm的晶圓。它還具有一個易於使用、直觀風格的觸摸屏顯示屏,位於設備的前部,便於操作流程。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z還具有內置的安全特性，例如外殼上的安全燈簾，防止操作員進入加工室，以保護他們免受危險化學品或材料的傷害。在工藝化學上，UW 300Z可以支持HF（氫氟酸）、NaOH（氫氧化鈉）、KOH（氫氧化鉀）等各種濕蝕刻工藝。濕蝕刻工藝可用於清潔晶片表面，並在其表面上繪制納米結構圖案。另外，TEL UW 300Z還可用於將薄膜沈積到晶片表面，如太陽能電池中使用的鋁膜。為了操作員的安全，TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Z配備了一個開門互鎖，防止操作員在晶圓在實驗室時進入加工室。此外，TOKYO ELECTRON UW300Z還配備了排氣罩，以確保被汙染的空氣被正確地排出實驗室環境。此外，UW-300Z還包括一個板載粒子監測系統，可連續監測工藝室內的粒子水平，允許實時過程監測。總體而言，TOKYO ELECTRON UW 300 Z是一種理想的半導體應用濕式站溶液。它重量輕,但設計堅固,並提供自動化的工具控制系統,具有集成的安全功能,可確保操作員在實驗室中的安全。此外，TEL UW 300 Z與多種工藝化學和薄膜沈積兼容，是各種工業和研究應用的絕佳選擇。