二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9314664 待售
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單擊可縮放
ID: 9314664
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Wet station, 12"
TOADK AQM-100A Resistivity meter measuring system
MITSUBISHI Q06UDHCPU PLC
Gas: H2O2, NH4OH, H2SO2, HCL, IPA
Temperature controller
SRM Tank
Exhaust unit
Main PC
Robot:
RL: VEXTA AKD514H-A / VEXTA PK596AW1-A11
UD: Oriental ARD-A / Oriental ARM98MC-A4
FF-20BT1-T8 Pump
MA901-8FK29-88-3 Heater
Signal tower: (4) Colors (GYWR) PATLITE LED
(2) Teach pendants (Main / Spin dry)
Missing parts
UPS: 208 V, 50 A, Single phase
Power supply: 208 V, 3-Phase, 150 A
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z是專門設計用於光刻和開發等濕化學加工應用的濕式站。TEL UW300Z是一個堅固可靠的單元,易於操作,為要求最苛刻的濕處理應用程序提供了卓越的使用壽命。該單元提供了高度的可重復性和可靠性，單批可處理多達300個晶圓。濕式站具有直觀的用戶界面，與其他TEL濕式處理設備緊密結合。這個潮濕站的核心是一個最先進的、全機化的晶片托盤裝載機設備，在晶片運輸中具有很大的靈活性。裝載機機構的設計可容納100毫米至300毫米的各種晶圓尺寸。晶片在運輸過程中被牢固地固定在適當的位置，以確保它們保持機械穩定，並減少潛在的粒子汙染風險。TOKYO ELECTRON UW 300Z還具有晶圓處理機器人，它利用一個完全可調的三點調節系統來精確定向晶圓進行處理。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z還配備了多項先進的安全環保功能。提供了加熱空氣蓋，以確保操作過程中的熱表面溫度保持在可接受的範圍內。該裝置還配備了一個流量傳感器，用於監測和控制向濕站供應化學品。這確保了精確數量的化學物質是專門針對工藝要求量身定制的，並降低了化學物質徑流或溢出的風險。為了確保高產率，TOKYO ELECTRON UW300Z還擁有一些先進的缺陷檢測和預防系統。該單元包括一個內置的粒子檢測單元，用於檢測和識別加工晶片上存在的沈積物。該單元還可以配置為測量關鍵的工藝參數,例如溫度和壓力,以便在造成缺陷或產量不佳之前檢測工藝異常。UW-300Z提供了高效濕處理所需的所有功能。通過將電動裝載機和晶圓處理機器人與先進的安全和缺陷防護系統相結合，TEL UW-300Z為最苛刻的濕式化學加工應用提供了最先進的工藝控制和可重復性。
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