二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-8000 #9223611 待售
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單擊可縮放
ID: 9223611
優質的: 2008
Wet station, 8"
Application: Batch wafer processing
Tool configuration:
LOAD / ACB
CTC
CHCL
SPM
HQDR
BOE
QDR
SC1
HQDR
POOL
IPA DRYER
CBS:
SPM
HF
No UPS
Power box
No Hot DI unit
No fire extinguisher
In-line heater
No concentration monitor
Mega sonic
Bellow pump
Heat exchanger
No external unit
L/D Power box
U/LD Power box
Loader body
SPM Body
SCI Body
Pool body
Unloader body
(4) Back Conveyors
Main power box
Battery box
Power box
IPA Dryer
PIO Board box
Main power: 208 VAC, 3-Ph
UPS: 208 VAC, 3-Ph
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-8000是專門為批量和單片加工應用而設計的濕式站。這一設備專門設計用於像蝕刻、更薄的沈積、溶劑清洗、化學機械拋光（CMP）、濕法化學處理等濕法化學加工。TEL UW-8000是一個靈活的系統，既可以處理單個晶片，也可以處理多達200個晶片的批處理。它配有兩個工藝模塊，每個模塊由四個單獨的工藝單元組成，所有這些單元都是隔離的。因此,該設備能夠處理單個晶片和批處理,而無需額外的附件。處理單元具有滑動打開的閘門,可方便地訪問和加載/卸載單個晶片。使用易於操作的觸摸屏顯示屏,可以輕松設置和控制流程配方。它還帶有直觀的配方編輯器/管理機器,以確保正確設置和記錄所有參數。內置警報管理工具有助於確保晶圓質量通過在操作過程中需要操作員註意的環境進行維護。腔室的設計也保證了每次均勻的晶片工藝，同時提供優越的溫度和濕度控制。腔室設有多區排氣資產，用於控制腔室的溫度和濕度。它還采用保形流動技術，在保持統一環境的同時實現精確流動。為了保持均勻性，TOKYO ELECTRON UW 8000型號還配備了現場汙染監測儀，可實時測量空氣中微粒汙染的數量。TEL UW 8000設備是一個獨特的、精心設計的系統，每次都能提供一致的高質量結果。擁有多個流程單元、簡單的自動化單元、報警管理機器；該工具可在任何環境中實現準確和可重復的濕化學處理。
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