二手 UNIVERSAL Wet bench cleaning system #293587907 待售

UNIVERS-Wet Bench cleaning equipment is a pressive and vensility wet station designed for cleaning and processing substates in semiconductor manufacturing and research這一尖端系統將精密清潔能力與先進技術相結合，滿足了半導體行業嚴格的清潔要求。濕式臺式清潔單元由一系列集成到單個平臺中的模塊組成，每個模塊在基板清潔過程中服務於特定的功能。這些模塊包括化學品分配單元、沖洗室、幹燥站和廢物管理系統。機器是高度可配置的,允許定制以滿足特定的清潔需求和過程。通用濕式臺式清潔工具的一個關鍵特點是其先進的化學分配能力。資產配備了精密劑量泵和自動混合系統，能夠精確分配清潔化學溶液。這確保了一致和受控的清潔過程,最大限度地降低了可變性和錯誤的風險。濕式臺式清洗模型中的沖洗室設計為在清洗過程中對基板進行高效徹底的沖洗。這些腔室配有多個噴嘴和水再循環系統，以確保最佳的沖洗性能。該設備還包括熱式DI水沖洗和超聲波清洗選項，以實現更高的清潔水平。除了清潔和沖洗功能外，濕式工作臺系統還設有幹燥站，以便在清洗後徹底幹燥基材。這些幹燥站結合了自旋幹燥、N2噴流和熱板技術，以確保快速和有效的幹燥，而不會在基材上留下任何殘留物。廢物管理是通用濕式臺式清潔裝置的另一個關鍵方面.該機器配有綜合廢物收集和處理系統，以確保有效處理和處置清潔過程中產生的化學廢物。采用先進的過濾系統，以盡量減少對環境的影響，並遵守監管要求。濕式臺式清潔工具采用用戶友好的界面和先進的控制系統，以簡化操作和監控。該資產具有觸摸屏顯示、配方管理功能和實時監控功能,可促進高效可靠的清潔過程。此外，濕式臺階模型采用堅固的材料和部件，以確保在要求苛刻的半導體制造環境中的耐用性和長期可靠性。該設備的設計符合行業清潔和安全標準，具有化學泄漏控制系統和煙霧提取能力等特點。總之，UNIVERS-Wet臺式清洗系統是半導體基板清洗加工的一種最先進的解決方案。濕式臺式設備具有先進的技術、可定制的配置和全面的清潔功能,為高精度半導體制造應用提供了無與倫比的性能和效率。