二手 WAFER PROCESS SYSTEMS / WPS SLFFH-600-P #9003748 待售

ID: 9003748
Wet Station HBT Acid/Corrosive/Etch chemical 60HZ 208V 3 Phase 45 amps 5 Wires Electrical Diagram # 0154356 Station # 2 HBT PNL 2M/32 34 36 All Controls are made by Wafer Process Systems 1) Switch Panel: WP5 Model 200 ASP Auxiliary 2) EPO: Model 100 Emergency Power off Panel 3) Process Timer: Model 1000T 4) Cycles: Model 20000 QDL Quick Dump Logic Station # 2 HBT Sink D546 All Controls are made by Wafer Process Systems 1) Resistivity Monitor: Model 900RM 2) Temperature/Time Controller: Model 3000 TTC 3) Process Timer: Model 1000T 4) Cycles: Model 20000 QDL Quick Dump Logic 5) Local Exhaust Ventilation: 1027 Hercules Foot Switch: CAT # 531-SWN Nema Type 2, 4 & 13 Extra parts included.
WAFER PROCESS SYSTEMS/WPS SLFFH-600-P濕站是一種自動化和完全集成的設備,設計用於處理各種生產環境中的小型/大型扁平晶片。它具有一系列用作輸送機的旋轉托盤,允許精確且可重復的產品裝卸,以及兩個對稱定位的加熱模塊,有助於確保均勻的溫度。該系統設計用於多種工藝和材料,包括多種化學工藝、稀釋、蝕刻和清潔操作,並可配備可選塗層、激光劃線和機器人系統。WPS SLFFH-600-P可以容納直徑最大為600mm、厚度最大為20mm的晶片,並且該單元可以同時處理多達6個晶片,吞吐量高達每小時500個晶片。晶片加載到旋轉托盤上,旋轉基礎上最多可對晶片應用6種不同的工藝。所有過程都由機器的專用控制器管理,從而可以精確、一致地控制整個生產過程。WAFER PROCESS SYSTEMS SLFFH-600-P具有強大的步進電機,用於精確的速度控制,其先進的雙泵工具能夠控制溶液的速度和流量。這一濕站還提供了一種連續的工藝模式,能夠處理多達1,800個晶片,加載速率高達每分鐘10個晶片。該資產還設計了顆粒收集和回收模型,允許清潔和環境友好的操作。SLFFH-600-P由於其強化的結構和先進的安全特性而非常可靠和堅固。該設備經過廣泛的安全測試,確保人員安全,並設有報警和緊急停車。此外,該系統還可防止沖擊和振動,其溫度管理單元可確保最佳工作條件。WAFER PROCESS SYSTEMS/WPS SLFFH-600-P是一個可靠、高效的濕式站,非常適合處理各種行業中的薄/大扁平晶片。
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