二手 HITACHI X-Strata 920 #293810485 待售

HITACHI X-Strata 920是一款先進的X射線設備，設計用於從半導體制造到材料研究等多種應用中的高性能薄膜分析。這款最先進的儀器融合了尖端技術，為薄膜成分、厚度、結構提供精確準確的測量。X-Strata 920的一個主要特點是它的高分辨率X射線光學器件，能夠對具有納米尺度分辨率的薄膜進行詳細分析。該系統配備了高光度X射線源，保證了樣品的最佳激發，提高了分析靈敏度。這對於分析復雜的層狀結構和薄膜尤為重要,因為精確的測量對於表征材料特性至關重要。HITACHI X-Strata 920還配備了一個用途廣泛的樣本級，可以分析各種樣本量和形狀。該單元支持手動和自動示例加載,從而能夠在一次運行中快速高效地分析多個示例。此外，樣品級可以傾斜和旋轉，以優化不同類型薄膜的測量幾何形狀，確保可靠和可重現的結果。在分析能力方面,X-Strata 920提供了一整套用於表征薄膜特性的測量技術。該機包括X射線熒光（XRF）分析，使元素成分分析具有高的靈敏度和精確度。這種技術對於識別薄膜中的雜質和摻雜劑，以及測量多層薄膜堆棧內各層的厚度特別有用。此外，HITACHI X-Strata 920具有X射線反射率（XRR）和放牧入射X射線衍射（GIXRD）能力，為薄膜的結構和形態提供了有價值的信息。用XRR測量薄膜的密度和厚度，用GIXRD分析薄膜材料的晶體結構、晶格參數和取向。這些技術補充了XRF分析，為薄膜表征提供了全面的方法。X-Strata 920由直觀的軟件控制，該軟件提供了一個用戶友好的界面，用於設置實驗、獲取數據和分析結果。該軟件允許使用可定制的測量協議、數據處理算法和報告工具,從而便於根據特定的研究或制造要求定制分析。此外,該工具還配備了高級數據可視化工具,使用戶能夠以清晰簡潔的方式解釋和可視化結果。總體而言,HITACHI X-Strata 920是一款功能強大且用途廣泛的薄膜分析工具,可提供高級分析功能、高靈敏度和精確測量。無論是在研究實驗室、質量控制環境還是半導體制造設施中使用，這一儀器都提供了薄膜材料的可靠準確的表征，幫助研究人員和工程師優化材料性能和性能。