二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606613 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是由生產半導體生產設備的全球領先公司TEL（TOKYO ELECTRON Limited）開發的擴散爐及配件。這種設備是專門為真空爐CVD（化學氣相沈積）工藝而設計的，在低成本、緊湊的設計中提供了較高的生產率和卓越的性能。TEL ALPHA 303IK擴散爐配有3區可編程邏輯控制器（PLC），用於控制自動功能。爐的工作溫度範圍為800 °C至1400 °C（1472 °F至2552 °F），基板溫度精度在1100 °C（2012 °F）時± 2 °C，單個區域內均勻度± 10 °C。擴散爐提供垂直磁化器運動、大的工作體積和均勻性，使其成為大型晶圓工藝的理想選擇。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K也加裝了額外的硬體配件，以改善其功能。這些附件包括一個角度感知器托盤、流量控制器、離子計、質量流量控制器、吹掃系統和獨立冷卻單元。傾斜的磁感器托盤可確保過程均勻性,而流量控制器可確保最多四個氣體的連續流量。離子計用於精確測量爐膛內氣體顆粒的水平。質量流控制器用於精確控制氣體流量和壓力，而吹掃機則提高了腔室的清潔度。獨立冷卻工具有助於冷卻加熱器,並在達到所需溫度後停止該過程。除了提供增強的擴散能力外,TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK還提供卓越的安全功能。該爐采用互鎖蓋子、緊急開關和惰性供氣資產設計，確保操作人員在使用過程中的安全。ALPHA 303IK擴散爐結合了方便、安全和精確的小型和經濟高效的設計。它是許多半導體應用的理想選擇，從IC制造的化合物擴散到納米技術的薄膜和聚合物沈積。