二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606627 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K擴散爐及配件是一種綜合設備，為半導體器件的生產提供了經濟高效可靠的解決方案。TEL ALPHA 303IK擴散爐和配件具有廣泛的選擇和配置,可以滿足特定的工藝要求。全自動供氣設備和遠程支持能力使其成為設備生產的高效可靠工具。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K擴散爐提供廣泛的工作溫度範圍，最大溫度為1250 °C。它可以與多種前體氣體一起使用，允許精確控制擴散氣體濃度和霧化率。它配備了高精度的加熱區溫度控制系統，能夠快速的加熱和冷卻時間響應。此外，該爐還設計用於晶片的快速裝卸。它的自動化氣體單元允許精確控制各種前體的氣相，如矽和移植物。燃氣機能夠精確控制多達10種前體的流量和一個殘留氣體監測工具，以確保安全和準確的工藝結果。此外，自動氣體資產還配有內部校準裝置、壓力控制模型和完整的設備診斷裝置，用於自動檢測錯誤和其他故障。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K擴散爐及配件還提供遠程支持、溫度均勻性控制、自動溫度剖析等附加功能。溫度均勻性控制系統為整個爐區提供了高水平的溫度穩定性。此外,自動溫度分析單元在晶圓上提供均勻的溫度。這些功能有助於在擴散氣體濃度過程中保持一致的結果。ALPHA 303IK擴散爐及配件還包括電子回旋共振（ECR）氧化、多晶矽電子回旋共振摻雜、原子層沈積（ALD）等擴展工藝能力。ECR氧化機利用高頻（L-Band）信號產生氧自由基進行氧化和擴散過程。多晶矽電子回旋共振摻雜工具是由模式定義和負離子註入組成的兩步過程。ALD資產通過脈沖激光將前體汽化，並將材料沈積在晶片上。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K擴散爐及配件是一種全面、安全、經濟高效的半導體生產裝置。它提供了廣泛的溫度、氣體和工藝能力,以滿足特定的工藝要求。此外,它還配備了自動化氣體輸送、遠程支持、精確的溫度分析以及擴展的工藝功能。這使得它成為半導體器件生產和工藝支持的理想選擇。