二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293608018
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
LPCVD Furnace, 12"
Process: PIQ
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
WAVES System controller
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Oxygen analyzer
RCU
Process gasses:
N2
O2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Air operated valve: FUJIKIN
MFC: STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
(5) Forks
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Spare parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-201
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一種先進的擴散爐，是半導體工業研究、生產和質量控制工作的必要工具。它旨在創建準確、均勻的摻雜劑輪廓,防止加工過程中的電泄漏。該爐專為絕緣子上矽（SOI）層的沈積而設計，非常適合應變工程、多層沈積以及生產高性能半導體器件。TEL ALPHA 303IK采用先進的加熱設備,溫度範圍為200-1200 °C,可確保均勻準確的溫度分布。它還配備了閉環熱電冷卻器（TEC），用於在加工過程中精確控制基板溫度。先進的加熱器控制器具有低功耗,使加熱系統性能得到改善.此外，獨特的晶片級摻雜劑驗證單元提供準確的過程監測，即使晶片級的變化是存在的。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K含有先進的強制流動氣體分散機，提供均勻精確的氣體分布。這一工具有助於保持化學氣相沈積（CVD）和其他工藝的均勻性，方法是盡量減少沿基質的氣體濃度的波動。隨著擴散爐，還有各種配件，如石英加熱元件、手動和自動輸送機電機和晶圓卡盤。這些附件能夠高效加工和低汙染。ALPHA 303IK還具有靈活的冷卻資產,可快速冷卻和穩定半導體材料。其自動流體模型有效地管理溫度，並確保整個冷卻過程中晶圓級的熱均勻性。此外，其屢獲殊榮的智能真空排氣設備還能提高操作效率，防止壓力在工藝室內積聚。ALPHA 303 I K是為了安全可靠的操作而建造的；它包括一些安全功能，如緊急關閉和聯鎖。此外，該爐還配備了直觀的GUI，能夠方便編程和操作。總體而言，Alpha 303i-K是一種先進且高度可靠的擴散爐，旨在滿足半導體研究和生產的需求。
還沒有評論