二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293626328 待售
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ID: 293626328
Furnace
Process: D-Poly
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C
Boat operation: (2) Boat type
Carrier ID Reader / Writer
ASYST ATR9100
Furnace:
Heater type: VMM-56-002 Mid temperature, (5) zones, 500°C - 1000°C
MA901-8FK09-Z250A Temperature controller
Wafer / Carrier handler:
Wafer type: 300 SEMI STD Notch
Carrier type: FOUP / 25-slots
(16) Carriers
Fork type / Material: 1+4 / Al2O3
Boat / Pedestal:
(100) Wafers
Boat material: SiC with CVD coat
Boat type: 117-Slots ladder
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Material: Quartz
Inner type: Straight
Internal T/C type: Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Waves controller
Front operation panel
Front MMI and Gas Flow Chart (GFC)
Signal tower, 4-colours
Pressure display unit
Gas cabinet exhaust display unit
M560A Furnace temperature controller
Vacuum system:
Vacuum exhaust
CKD VEC Vacuum pressure controller
CKD VEC Valve
Pressure controller: MKS Capacitance manometer
Pressure monitor: MKS Capacitance manometer
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Type: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel
No tubing bends
Tube heater
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air-operated valve
MYKROLIS Pressure transducer
Soft backfill injector
Manifold heater
MFC:
SiH4 / 3 SLM
PH3 / 500 SCCM
PH3 / 50 SCCM
PH3 / 30 SCCM
ClF3 / 5 SLM
N2 / 3 SLM
N2 / 5 SLM (x4).
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K擴散爐是一種用於制造高性能半導體零件的半導體加工設備。該爐專為離子註入、氧化和退火過程而設計.它具有高精度、高速、低熱氧化物應力的生產能力，實現了高達250毫米晶圓直徑的優質均勻植入物。TEL ALPHA 303IK包括幾項先進技術,可準確有效地控制所有工藝參數。其中包括獲得專利的高級功率控制（APC）設備,該設備具有用於嚴格控制等離子體特性和均勻性的高性能電源,以及用於精確控制氣流和溫度以實現均勻和可重復結果的雙Ti擴散（DTD）技術。直觀的TELVision監控系統提供實時的流程監控和診斷。此外，Advanced Motorized Scanner（AMS）確保了25毫米晶圓的高精度、高速掃描。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K還利用了專利的直接熱解還原（DPR）裝置，使擴散爐能夠使用通量較高的低溫熱解（化學氣相沈積）工藝，同時避免冷壁效應和工藝不均勻性。此外，可選的MEMS擴展套件允許以高達10倍的放大倍率處理MEMS（微機電系統），用於精確成型和蝕刻。TEL ALPHA 303 I K配有一套全面的附件，用於監測和控制擴散過程的各個方面。該裝置包括一臺自動快門機，用於無錯誤啟動，一臺用於控制等離子體產生和阻抗匹配的射頻發電機，一臺用於阻抗控制的E-box電阻率控制器，一臺用於管理所有刀具功能的集成控制器，一個用於控制基板溫度的負載室，以及一臺用於快速泵送的高真空渦輪泵。為了最大限度地提高產品生命周期並最大限度地減少過程維護,TEL設計了TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K,具有強大的構建和先進的安全功能,包括一個集成的安全資產,可防止事故和人員、支撐結構以及周圍環境受到損壞。該單元還具有一些方便使用的有用功能,包括易於維護和運輸的設計。而且，該爐經認證符合Sematech標準對光學和輻射安全的嚴格要求。最先進的ALPHA 303 I K提供最先進的性能,使您的生產線保持其最高效率。它結合了尖端的擴散烤箱技術和全面的配件,提供可靠、可重復和高質量的加工結果,幫助您保持較低的生產成本和較高的產品產量。
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