二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394532 待售
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ID: 9394532
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
Furnace, 12"
Process: Silicon nitride (SiN) deposition process using dichlorosilane‑based chemistry
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一種擴散爐和附件，能夠將各種材料快速、精確、低溫的薄膜沈積在基板上，用於半導體制造。適用於多種應用，包括退火、修復、氧化、薄膜沈積等。該機先進的控制系統提供了溫度剖面、時間、壓力、氣流、大氣成分等參數的精確控制。這樣可以靈活高效地生產高質量、高精度的薄膜。TEL ALPHA 303IK具有高性能並行擴展TEM （TEM）過程模塊。此模塊允許精確控制高達1000 °C的過程溫度,並提供了大量的溫度剖面。它還設有一個旨在最大限度地減少熱量損失的爐窗和一個現場溫度測量系統，以確保整個過程中統一的溫度控制。擁有種類繁多的可選配件，TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K可用於鉑金氧化矽薄膜退火、氧化、沈積等應用。它也可用於保護電子發射器表面和控制材料的表面粗糙度。另外，機器與多種類型的材料兼容，包括各種金屬、矽片、GaN晶體和玻璃。ALPHA 303IK快速、高效、易於安裝和使用。它具有用戶友好的觸摸屏和各種安全功能,如接地底盤、高壓隔離和泄漏測試監控。此外,它又緊湊又易於攜帶,是各種環境下各種生產工藝的理想選擇。總體而言，Alpha 303i-K是為滿足半導體制造商的需求而設計的高性能擴散爐及配件。它擁有先進的控制系統和各種可選配件,可實現快速、精確、均勻的薄膜沈積,是各種應用的理想選擇。
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