二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394535 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是半導體制造工業中使用的單幀、大型、通用加工設備。該系統有擴散爐和輔助設備兩個部件。TEL ALPHA 303IK擴散爐具有提高均勻性和快速運行時間等諸多優點。爐本身在晶圓的廣域上具有大約± 1°C的高熱均勻度，大約20分鐘就能達到1150 °C的溫度。該爐還有兩個獨立的區域，設計用於兩種不同類型的加工能力。浮帶可處理高達1,200 °C，石墨帶可達1,700 °C的溫度。此外，該爐采用U形石英管設計，提供均勻的加熱和冷卻，以確保高質量的薄膜沈積。該裝置還配備了輔助設備，增強了爐子的加工能力。這包括一臺計算機控制的晶片裝載機/卸載機、四套非接觸式真空開/關電容計、三種熱卡盤選項、一個獨立的預熱站和一臺氣體進料機。晶片裝載機/卸載機允許晶片通過精確控制自動裝卸。非接觸量規提供晶圓溫度的精確測量，而熱卡盤選項增強整個晶圓的熱均勻性。獨立預熱站提供高晶圓溫度均勻性的快速預熱時間，而供氣工具則提供多種工藝氣體，用於薄膜的可靠沈積。總體而言，TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K是一種出色的擴散爐資產，具有可靠的性能。其廣泛的處理能力使其成為各種過程的理想選擇。計算機控制的晶片裝載機/卸載機、獨立預熱站和非接觸式真空開/關電容計增加了模型的效率和準確性。該爐在很大範圍內具有± 1°C的高熱均勻性，可確保在短時間內生產高質量的薄膜。