二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394989 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9394989
晶圓大小: 12"
Furnace, 12" DCS-MTO.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K擴散爐是一種先進的大型半導體制造植入器。該設備設計用於金屬、陶瓷等材料的高效熱處理,用於微電子及相關應用。它設計有一個開放式腔室,可以方便地訪問各個組件。TEL ALPHA 303IK由托盤室、下部控制區和上部處理區三部分組成。托盤室具有預熱區和退火區,用於受控熱處理.它還裝有可移動托盤,可容納各種基板。這些托盤采用高性能鋁制成,熱分布均勻,使得低溫工藝步驟得以快速高效地完成。此外,托盤還具有集成冷卻系統,可在處理步驟之間進行更改時快速冷卻。下部控制部分配有先進的空氣再循環裝置,確保工藝環境的完整性。這是用HEPA和ULPA濾波器實現的bya兩級濾波器,防止外界汙染。這確保了過程環境不受外來粒子的影響。它還配備了智能用戶友好監測工具,該工具提供關於每個工藝步驟的確切條件和參數的詳細信息。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K的上部工序區域由氣體進氣歧管、石英加熱基板架和功率控制器組成。基板支架具有氣體註入和冷卻的孔徑,設計目的是最大的加熱速率,實現均勻加熱。電源控制器用於控制加熱元件的溫度,從而實現高效、均勻的熱處理。除了主要資產外,還有一些可用的附件,例如用於設置預熱和退火溫度的可選磁感器控制板、光學高溫計和光譜成像模型。該設備用於自動光學檢測和分析基板加工後的微觀結構。總體而言,ALPHA 303IK擴散爐可以為微電子應用提供金屬、陶瓷等材料的高效熱處理。它設計有一個開放式腔室,可以方便地訪問單個組件。該系統進一步增強,配備了先進的空氣再循環裝置,確保了工藝環境的完整性,並配備了多個附件,在執行各種處理步驟時可實現更高的精度。
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