二手 OXFORD 100 #293824960 待售
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ID: 293824960
晶圓大小: 2″ / 3″ / 4″ / 5″ / 6″ / 8″ / 12″
優質的: 2013
Reactive Ion Etcher (RIE), 2″ / 3″ / 4″ / 5″ / 6″ / 8″ / 12″
Plasma source: 13.56 MHz RF, 0–600 W
Process gases:
Cl₂: 0–100 sccm
BCl₃: 0–100 sccm
CH₄: 0–50 sccm
Ar: 0–100 sccm
NH₃: 0–100 sccm
CHF₃: 0–200 sccm
N₂O: 0–200 sccm
Materials: GaAs, GaN, Si, SiC
Wafer thickness: 0.4 – 1.5 mm
Etch rate: GaAs ≥ 10 nm/min
RF power supply: HiLight 136+, 600 W, 13.56 MHz
APC pressure control range: 1 – 60 mTorr
ALCATEL ATH400M Process chamber vacuum pump
ALCATEL ATP150 Transfer chamber vacuum pump
Chamber temperature range: Room temperature - 70°C
Gas cabinet
Control system
Chiller
2013 vintage.
OXFORD 100+是一種高效率的商業級蝕刻和制造系統，設計用於生產完全定制、高質量的蝕刻產品。系統的用戶界面簡單直觀，允許快速、輕松的設置和操作。100+采用重型工業級模輥機構，確保整個蝕刻過程的最大性能和一致性。模具滾筒由堅固的伺服馬達提供動力，可以處理繁重的工作負載，並產生靜音和流暢的操作。此外,模具滾筒還配有一個編碼器,可實現精確的速度和精度控制,並在達到所需蝕刻深度時自動停止。OXFORD 100+還具有高功率激光蝕刻器。這種激光器能夠將復雜的圖案、梯度和文字蝕刻成各種材料，包括金屬、木材、塑料和陶瓷。激光的光束密度和功率輸出可以根據特定材料和成品的需要進行調整。該系統還提供各種安全功能,確保操作員在使用機器時的健康。模具滾筒包含電源故障時的緊急停止機構,以及旨在保護操作員和正在蝕刻的材料的附加安全功能。激光蝕刻器裝有1級激光安全罩，進一步確保操作員的安全。100+被設計成高產可靠的制造機器。OXFORD 100+提供了廣泛的效率和靈活性,為任何蝕刻和制造項目提供了獨特而全面的解決方案。
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