二手 OXFORD Plasmalab 100 #293656747 待售

ID: 293656747
晶圓大小: 8"
PECVD System, 8" Process: SiN.
OXFORD Plasmalab 100是一種蝕刻器/顯影劑,設計用於廣泛的真空薄膜沈積工藝。該單元采用緊湊耐用的設計,可用於許多工業和實驗室環境。Plasmalab 100配備了一系列先進的技術部件,使其能夠蝕刻和沈積各種各樣的材料。這包括薄膜氧化矽、氮化物、鋁、鈦、鎢和各種金屬、合金、氧化物。該單元設有一個獨立的腔室,該腔室配有一個整合泵,用於泵送所有必要的氣體並產生所需的真空壓力。密封室的設計確保向沈積室穩定供應清潔氣體,從而實現材料的精確可靠的蝕刻和沈積。集成的可編程壓力控制器可自動調節腔室內的壓力以獲得最佳的蝕刻性能。OXFORD Plasmalab 100配備了一個巨大的4千瓦電源,能夠提供必要的電力來驅動各種蝕刻配方,從低電流密度到高電流密度的過程。可調離子源允許用戶根據正在蝕刻或開發的材料定制離子束。這包括調整能量和電流密度的能力,以及光斑大小,這都是蝕刻相同大小和深度的均勻特征的重要參數。該裝置還具有中低壓力設置,用戶應根據材料類型和所需蝕刻深度進行調整。板載診斷實時顯示氣流、腔室壓力、離子束參數等。這樣可以完全控制和監視蝕刻過程。Plasmalab 100是一個可靠、堅固的單元,易於安裝和使用。其簡單的用戶控制面板允許快速訪問所有必要的工具,這些工具可以根據特定的蝕刻需求進行定制。同時,它還具有先進的安全控制機制,以確保安全和負責任地使用易燃氣體等危險材料。
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