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OXFORD Plasmalab 100
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OXFORD Plasmalab 100 #293660206
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Plasmalab 100

System With ICP 180 Gases: C4F8, CHF3, SF6 2005 vintage.
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PECVD System, 8" Process: SiN.
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System Type: ICP 380 2013 vintage.
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ICP Reactive Ion Etcher (RIE), 3"-8" Chamber Low temperature silicon etching system Unique process
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System.
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ICP System.
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PECVD System.
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ICP System, 6".
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ICP-RIE System.
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ICP Reactive Ion Etcher (RIE) LED Field PECVD.
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PECVD System, 2"-6".
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ICP Etcher, 6" Currently crated.
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