二手 OXFORD Plasmalab 100 #293660206 待售
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OXFORD Plasmalab 100是一款為精密等離子體蝕刻而設計的蝕刻器/asher，允許高蝕刻速度和均勻的蝕刻輪廓，同時還提供高能效和快速的樣品處理。該設備包括具有先進真空技術的人性化桌面真空室、高精度卡盤和電極，以及用於將不同材料精確蝕刻到多種深度的應用專用軟件包。利用系統的均質反應器，研究人員可以均勻地蝕刻底物而不發生樣品轉移或損壞。高蝕刻速率與高精度卡盤和電極組件相結合,使用戶能夠精確蝕刻具有高保真、可重現蝕刻輪廓的各種材料。此外，Plasmalab 100還通過獨特的氣體輸送拼盤提供均勻的蝕刻深度和端點檢測，該拼盤將反應性氣體均勻地分布在基板上，以實現高蝕刻率均勻性。該裝置先進的真空技術還允許采用超低壓方式對亞微米溝槽和其他特征尺寸可達50納米的微加工結構進行高分辨率蝕刻。這確保了幹蝕刻工藝能夠產生低溫剖面,從而能夠對先進設備進行實際蝕刻,並將因熱應力而發生分層或斷裂的風險降至最低。隨附的軟件包提供了廣泛的應用程序可編程性,包括峰值優化、基板模式識別、端點檢測、多軸控制以及更多的控制選項,以確保準確可靠的蝕刻結果。此外，還可以將自適應自學蝕刻工藝配置為連續改變蝕刻條件，以實現最佳蝕刻速率和輪廓控制。高級數據記錄功能還允許輕松監控和顯示流程參數、一天中的時間、耐用性和其他重要指標。OXFORD Plasmalab 100是薄膜、MEMS器件和MEMS元件蝕刻的理想解決方案。它具有很高的準確性、可重復性和功能性,可提供幹凈、可重現的蝕刻配置文件,且樣品移位或損壞的風險最小。這臺機器非常適合研究先進的MEMS結構的研究人員，他們需要快速、均勻、可靠的蝕刻。
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