二手 OXFORD Plasmalab 100 #293743445 待售
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ID: 293743445
晶圓大小: 6"
System, 6"
(2) Process modules
Quartz clamp, 6"
PECVD Left chamber
ICP/RIE Right chamber with turbo
Endpoint detector laser
Square loadlock with rotating arm
PLC Controller
(3) Oil pumps
Chiller
PC
PECVD Gas pod: SiH4 (Silane), N2O and NH3 (Ammonia)
ICP/ RIE Gas pod: C4F8, O2 and He
Operating system: Windows 2000.
OXFORD Plasmalab 100是一個高度先進的蝕刻/asher理想的廣泛的研究和工業應用。憑借其先進的技術，該設備為研發實驗室提供了精確精確的蝕刻和灰化能力。此蝕刻器/灰化器具有強大的200瓦射頻發生器,能夠實現高蝕刻和灰分速率。它完全集成，易於使用的控制軟件允許容易選擇蝕刻和灰分參數。此外,系統還提供了一個大型直觀的全彩色16英寸觸摸屏顯示屏,用戶可以輕松控制和監控蝕刻和灰化過程的進度。Plasmalab 100還提供各種蝕刻和灰化選項。它支持多種基材，其堅固的平臺使其成為更高功耗應用的理想之選。它也可以用來蝕刻有圖案的基板，包括晶圓、模具和陶瓷基板，並且可以產生一系列的特征大小和深度。這使得它適合多種工業、微電子、半導體和生物研究應用。該系統提供各種過程控制功能,以確保絕對可重復和可重現的結果。它提供手動和自動化的蝕刻和灰燼控制,可以精確控制蝕刻和灰燼速率。此外，它有一個獨特的湍流電離等離子體（TIP）源，當過程參數改變時提供快速反應，導致整個單元腔室內的等離子體非常均勻。它還具有氣體淋浴功能，有助於確保氣體分布均勻，減少顆粒形成。OXFORD Plasmalab 100還具有雙冷卻壓板，能夠有效去除蝕刻和灰化過程中產生的熱量。對於極高的蝕刻或灰分速率,它提供了快速冷卻機,以及升級的冷卻組件,可將冷卻容量提高80%。其先進的安全功能包括安全外殼和緊急停止開關。它已獲得CE認證,有兩種不同型號-一種用於工業用途,另一種用於實驗室用途。最後,它提供為期兩年的保修,涵蓋零件、人工和旅行費用。
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