二手 OXFORD Plasmalab 100 #293748565 待售

OXFORD Plasmalab 100是一款等離子體蝕刻器/asher，設計用於在廣泛的應用中提供可控和可重復的蝕刻和灰化功能。該設備采用專利的「開槽襯裏」設計，采用了一系列組件，以減輕汙染並提供高速處理。設計用於研發和生產設置，Plasmalab 100配備了一個單一的基板支架，允許它處理多達七十五（75）個150毫米晶圓或145毫米晶圓。它還包括一個單一的8英寸RF線圈，使其能夠蝕刻厚度高達500 um的基板。基板電源可提供高達1.2kW的功率,最大駐波比（SWR）為1.4,以便進行高效且可重復的處理。OXFORD Plasmalab 100還配備了Hi-Vision高分辨率平板顯示器,分辨率為500萬像素。這允許用戶在蝕刻器/asher內顯示晶圓/基板的實時、高清流圖像。此外,系統中還集成了一個可編程邏輯控制器（PLC）,用於監視和控制壓力、溫度和射頻功率設置等過程。Plasmalab 100還有幾種安全和汙染預防機制，以確保取得最佳效果。它配備了一個五級除塵器，以及一個自檢單元，以防止任何殘留的微粒進入維修檢修門密封。機器還使用惰性氣體和主動屏蔽防止任何導電顆粒進入腔室，從而防止等離子體破裂和設備損壞。在processChemistry方面，OXFORD Plasmalab 100能夠處理多種化學物質，包括含氧、ArCl2、CHF3和SF6的SF6，僅舉幾例。它還具有一個獨特的基於PC的軟件,它允許快速制作新配方的原型和可重復的過程保真度。最後，該工具采用了室內電容和功率組合的選擇，為多種工藝應用提供了無與倫比的靈活性和可擴展性。總體而言，Plasmalab 100是涉及等離子體蝕刻和灰化的應用的理想選擇，因為它具有高性能、用戶友好的控制和強大的汙染預防機制。