二手 OXFORD Plasmalab 100 #293772814 待售
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OXFORD Plasmalab 100是一款高度先進的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於半導體制造和研究應用中的精密蝕刻和灰化工藝。這種最先進的工具提供了卓越的過程靈活性、可靠性和可重復性,使其成為滿足各種等離子體處理要求的理想選擇。Plasmalab 100的核心是一個復雜的等離子體源，它產生一個高密度、均勻的等離子體，以便於從半導體樣品中高效蝕刻和去除材料。該系統配備了多種氣體輸入，允許對工藝氣體和參數進行精確控制，以實現整個樣品表面所需的蝕刻速率、選擇性和均勻性。OXFORD Plasmalab 100采用多用途的室內設計，可容納各種樣本量和形狀，使用戶能夠處理各種不同尺寸和幾何形狀的材料。該設備先進的真空機確保了快速的泵降時間和高度的過程穩定性,有助於提高過程的可重復性和整體生產率。Plasmalab 100的關鍵優勢之一就是其直觀的用戶界面，它為運營商提供了一系列全面的工藝配方和參數的便捷訪問。該工具的軟件允許實時監控和控制關鍵工藝參數,如氣體流量、壓力、功率和溫度,使用戶能夠微調工藝條件以獲得最佳效果。OXFORD Plasmalab 100提供一系列等離子體蝕刻和灰化能力，包括反應性離子蝕刻（RIE）、感應耦合等離子體（ICP）蝕刻和等離子體清洗/灰化。這些過程可以以高精度和可重復性進行，使資產適合於模式傳輸、裝置制造、表面清潔和材料去除等應用。該型號先進的射頻電源和匹配網絡確保在整個樣品區域穩定的等離子體生成和統一的處理。Plasmalab 100還具有先進的氣體輸送和混合系統，能夠精確控制等離子體的化學性質，便於定制蝕刻工藝以滿足具體要求。除了卓越的性能和靈活性，OXFORD Plasmalab 100的設計考慮了用戶的安全和環境考慮。該設備包括各種安全聯鎖和警報，以防止操作員接觸危險化學品和高壓，確保等離子體處理過程中的高水平操作安全。總體而言，Plasmalab 100是一款將先進的等離子體處理能力與用戶友好操作相結合的前沿工具，使其成為尋求實現高質量、可靠蝕刻和粉刷工藝的半導體研究和生產設施的重要資產。它的多功能性、精確度和堅固的設計使它成為半導體行業中要求苛刻的等離子體處理應用的頂級解決方案。
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