二手 OXFORD Plasmalab 100 #293810520 待售

OXFORD Plasmalab 100是在研發應用中為金屬、介電材料和半導體的精確等離子體蝕刻而設計的最先進的反應性離子蝕刻器（RIE）。易於使用的設備具有出色的蝕刻均勻性,並允許在系統中存儲多個蝕刻配方,從而提供了最大的靈活性。Plasmalab 100配備蝕刻室，能夠保持蝕刻均勻性的高度一致性。該腔室被封裝在一個非常耐用的不銹鋼外殼中，並配有各種連接器以連接各種輸入和輸出。蝕刻過程由射頻發電機供電，由高壓直流電源供電，反應性氣體供應由一系列氣體閥和流量調節器控制。要啟動蝕刻過程,必須在控制器中編程合適的蝕刻配方。這一配方將決定用於預定應用的蝕刻工藝類型（如氣體、流量、壓力和功率的混合）。控制器還允許同時存儲多個預設蝕刻配方,以節省時間並確保結果一致。除了提供出色的蝕刻均勻性和可重復性外，OXFORD Plasmalab 100還具有許多其他功能，旨在確保用戶安全。其中包括一個水冷排氣裝置以減少危險蒸氣和溫度傳感器以確保機器不會過熱。該工具還包括在壓力下降或其他緊急情況下真空激活的關閉資產。Plasmalab 100是一種高效可靠的蝕刻器/asher，適合多種應用。OXFORD Plasmalab 100具有存儲多種配方的靈活性和附加的安全功能,是任何希望進行高精度蝕刻的實驗室的絕佳選擇。