二手 OXFORD Plasmalab 100 #293812431 待售

ID: 293812431
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 100是一款蝕刻器/asher,旨在為生產高級半導體器件提供最佳條件。該設備結合了低真空(1至1.5x10-2torr)環境和基於Plasmalab 100-TEM控制源的遠程等離子體源。OXFORD Plasmalab 100是先進的三級等離子體處理系統,允許對工藝參數進行精確的控制。第一階段由高速、計算機化的調諧/匹配網絡組成,允許可變功率輸入。第二級由一個電子倍增器組成,它與一個控制計算機結合使用來調制離子電流。第三級由真空密封圓柱形石英蝕刻室組成。這個腔室是專門為用戶提供更大的蝕刻參數控制和優化性能而設計的。Plasmalab 100是制造精確、高電流接觸和元件分離以及生產高密度設備的理想選擇。該設備的高精度和可重復性也使其成為大批量制造設備的理想選擇。OXFORD Plasmalab 100配備了一臺內部診斷機器,可監控過程環境以確保最佳性能。該工具還具有高精度數字讀出功能,為用戶提供對蝕刻參數的更大控制,並允許對離子電流進行精確控制。Plasmalab 100還具有多種工藝氣體,包括氙氣、氧氣和氫氣,為蝕刻參數提供了進一步的控制。氣體還放大功率水平,有助於創造更好的結合和準確性。OXFORD Plasmalab 100還帶有獨特的遠程等離子體源,允許更精確的蝕刻和對工藝參數的精確控制。Plasmalab 100 蝕刻器/asher適用於多種任務,包括元件的接觸和分離,試驗結構的制造,以及高電流的接觸。該資產還具有真空密封石英蝕刻室、18個電極圖樣和內部診斷模型,以確保最佳性能。OXFORD Plasmalab 100使其易於產生高質量和可靠的結果,確保任何生產任務的成功。其高度的精確度和可重復性使其成為大批量制造半導體器件的理想選擇,使其成為任何生產環境的寶貴資產。
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